鍍膜機(jī)產(chǎn)品及廠家
小型蒸發(fā)鍍膜儀，實(shí)驗(yàn)室氣相沉積設(shè)備用于真空蒸發(fā)鍍光學(xué)薄膜、有機(jī)物薄膜和金屬薄膜、在襯底上沉積各單層金屬 膜，主要用于蒸鍍電及有機(jī)半導(dǎo)體材料的物理化學(xué)性能研究實(shí)驗(yàn)研究 。特別適合于高科技企業(yè)、科研單位和高校用于膜層研究和膜系開發(fā)。
更新時(shí)間:2025-12-16
jy-e120c 鍍碳儀 是一款專為掃描電鏡（sem）和能譜分析（eds）樣品制備設(shè)計(jì)的專業(yè)設(shè)備。它通過高質(zhì)量的碳蒸發(fā)技術(shù)，在非導(dǎo)電或低導(dǎo)電性樣品表面形成均勻、致密的導(dǎo)電碳層，從而有效防止電子束充電效應(yīng)，確保獲得高分辨率、無偽影的電鏡圖像和準(zhǔn)確的元素分析結(jié)果，是科研電鏡制樣工作的理想選擇。
更新時(shí)間:2025-12-15
美國denton vacuum 金/碳鍍膜機(jī),用于大型工業(yè)生產(chǎn)、科研開發(fā)和小規(guī)模制造。
更新時(shí)間:2025-12-15
英國oxford vacuum 電子束蒸發(fā)鍍膜機(jī)vapour station 4,是一款微納器件樣品制備系統(tǒng)，為有機(jī)無機(jī)多源有氣相分子沉積系統(tǒng)，高真空條件下，通過加熱材料的方法，在襯底上沉積各 種化合物、混合物單層或多層膜，具有高真空多源有機(jī)、金屬電阻蒸發(fā)及手 套箱保護(hù)條件下器件后期制作，主要用于有機(jī)半導(dǎo)體材料的物理化學(xué)性能，研究實(shí)驗(yàn)、有機(jī)半導(dǎo)體器件的原理研究實(shí)驗(yàn)也可用于普通金屬電蒸發(fā)鍍膜究。
更新時(shí)間:2025-12-15
法國plassys微波等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng) ssdr 150 ，門用于合成 cvd 金剛石薄膜，能夠制備高純單晶(需高純氣源）、厚單晶、大單晶、多晶薄膜、光學(xué)窗口。ssdr150 不斷優(yōu)化的微波及等離子體設(shè)計(jì)，是一款可靠的、穩(wěn)定的、長時(shí)間運(yùn)行的金剛石薄膜生長系統(tǒng)，能夠完美地適用于高?？蒲泻推髽I(yè)生產(chǎn)。
更新時(shí)間:2025-12-15
英國hhv桌上型濺射鍍膜儀bt150和bt300,新系列小型桌上系統(tǒng)，觸摸屏顯示控制，適合于sem及tem電鏡樣品制備及常規(guī)科研的全功能系統(tǒng)。
更新時(shí)間:2025-12-15
日立hitachi 離子濺射儀 mc1000,采用lcd觸摸屏，可以更加簡便地設(shè)定加工條件,可處理較厚或較大的樣品(選配件),記憶功能可存儲常用加工條件.
更新時(shí)間:2025-12-15
美國neocera pld 脈沖激光沉積系統(tǒng) p180 , 一種用途廣泛的、用于薄膜沉積以及納米結(jié)構(gòu)和納米粒子合成的方法. ped 脈沖電子束沉積系統(tǒng) ped-180,是高能脈沖 (100ns) 電子束 ( 約 1000 a,15 kev) 在靶材上穿透將近 1 um，使靶材快速蒸發(fā)形成等離子體。對靶材的非平衡提?。疲┦沟入x子體的組成與靶材的化學(xué)計(jì)量組成一致。在最佳條件下，靶材的化學(xué)計(jì)量與沉積
更新時(shí)間:2025-12-15
歐尼卡onick am-38帶彩信版野生動(dòng)物紅外監(jiān)測相機(jī)支持3000萬像素高清拍照，4k高清視頻拍攝。儀器啟動(dòng)反應(yīng)快，成像清晰，色彩真實(shí)。大可支持256gb sd存儲卡，兼容各種品牌?？纱钶d我司自主研發(fā)的云平臺圖像處理系統(tǒng)（軟著登記號：2022sr0370995），對抓拍到的圖片及視頻進(jìn)行識別與分析，還可搭配手機(jī)app遠(yuǎn)程控制相機(jī)（軟著登記號：2022sr0370994），遠(yuǎn)程控制修改參數(shù)，
更新時(shí)間:2025-12-12
啟用簡單，服務(wù)方便拆開包裝，連接線路，直接起動(dòng)！省去了高昂的啟用成本。設(shè)備采用即插即用概念，您自己就能啟用。您只需接通電源和工藝氣體即可。憑借一體式usb服務(wù)接口，服務(wù)技工可以在現(xiàn)場或者通過互聯(lián)網(wǎng)遠(yuǎn)程進(jìn)行快速錯(cuò)誤分析。采用模塊化配置，可以有指向性地更換有缺陷的部件。
更新時(shí)間:2025-12-02
丹頓真空公司位于美國費(fèi)城，是世界著名真空鍍膜設(shè)備制造商。從1964年成立至丹頓已為全球客戶制造了數(shù)千臺多種規(guī)格的蒸發(fā)設(shè)備、濺射和pecvd鍍膜系統(tǒng)，用于大工業(yè)生產(chǎn)、科研開發(fā)和小規(guī)模制造。丹頓用于科研開發(fā)和小規(guī)模制造的中小型鍍膜設(shè)備據(jù)美國市場占有率之首。
更新時(shí)間:2025-12-02
ccu-010 鍍膜機(jī)提供兩種款型。ccu- 010 lv低真空鍍膜機(jī)，ccu- 010 hv 高真空鍍膜機(jī)。采用模塊化概念，便于以后把低真空鍍膜機(jī)轉(zhuǎn)變?yōu)楦哒婵斟兡C(jī)。
更新時(shí)間:2025-12-02
ccu-010 鍍膜機(jī)提供兩種款型。ccu- 010 lv低真空鍍膜機(jī)，ccu- 010 hv 高真空鍍膜機(jī)。采用模塊化概念，便于以后把低真空鍍膜機(jī)轉(zhuǎn)變?yōu)楦哒婵斟兡C(jī)
更新時(shí)間:2025-12-02
sc-dp-i型桌面型提拉鍍膜機(jī) 性能特點(diǎn)：· 采用 4.3 寸彩色觸摸屏、bamboo 觸控筆，圖形化界面操作方便·&n
更新時(shí)間:2025-12-02
上海到漢中物流公司 從上海貨運(yùn)到漢中需要多少錢？貨運(yùn)公司哪家好?推薦漢中物流400-697-cc，兢兢業(yè)業(yè)，風(fēng)雨無阻，公司專業(yè)承接；
更新時(shí)間:2025-12-01
六源有機(jī)無機(jī)聯(lián)合蒸發(fā)鍍膜設(shè)備適用于制備金屬單質(zhì)薄膜、半導(dǎo)體薄膜、氧化物薄膜、有機(jī)薄膜等，可用于科研單位進(jìn)行新材料、新工藝薄膜研究工作，也可用于大批量生產(chǎn)前的試驗(yàn)工作。opv系列真空蒸發(fā)鍍膜與手套箱聯(lián)合系統(tǒng)的用戶群體為科研院所及實(shí)驗(yàn)室，將真空蒸發(fā)系統(tǒng)工作室置于glove box無水、無氧、無塵的超純環(huán)境中，pvd與glove box硬件無縫對接，操控融合一體，廣泛應(yīng)用于有機(jī)、無機(jī)、鈣鈦礦薄膜太陽能電池、oled等研究領(lǐng)域。
更新時(shí)間:2025-11-28
極域真空鍍膜系統(tǒng)以“真空性能”與“全域工藝覆蓋”為內(nèi)核，成為半導(dǎo)體、光學(xué)、新能源等制造領(lǐng)域的標(biāo)桿設(shè)備，助力客戶突破鍍膜技術(shù)瓶頸，實(shí)現(xiàn)“高精度、高效率、高回報(bào)”的智造升級。
更新時(shí)間:2025-11-21
實(shí)驗(yàn)室流延薄膜機(jī) 單螺桿擠出機(jī) 小型流延薄膜機(jī)型號：aod-xh-432 設(shè)備規(guī)數(shù) 型號aod-xh-25 單螺桿擠出機(jī) 機(jī)架采用型鋼焊接而成,并經(jīng)回應(yīng)力處理,有較高的鋼性,變形小。料筒及螺桿 標(biāo)配：3d混煉頭帶分散性單螺桿料筒及螺桿
更新時(shí)間:2025-11-18
leica em ace600是優(yōu)良的多用途高真空薄膜沉積系統(tǒng)，設(shè)計(jì)來根據(jù)您的fe-sem和tem應(yīng)用的需要生產(chǎn)非常薄的，細(xì)粒度的和導(dǎo)電的金屬和碳涂層，用于高分辨率分析。
更新時(shí)間:2025-11-14
xf803-931浸漬提拉鍍膜機(jī)是適用于溶膠-凝膠法（sol--gel法，簡稱sg法）制備薄膜的浸漬提拉法的一款高精度儀器。核心部件采用進(jìn)口配件，精準(zhǔn)控制提拉速度，多次重復(fù)鍍膜無位置偏差。提拉速度、提拉高度、浸漬時(shí)間、循環(huán)鍍膜次數(shù)、下降速度、停留時(shí)間均可以通過程序精確控制。適用于玻璃、si（100）、si（111）、藍(lán)寶石（al2o3）、瓷片以及樹脂基板等常用基板。
更新時(shí)間:2025-11-14
本產(chǎn)品是根據(jù)國標(biāo)gb/t21719-2008《稻整精米率檢驗(yàn)法》*新研制，是制定國家稻谷標(biāo)準(zhǔn)中整精米率數(shù)據(jù)的*指定儀器。
更新時(shí)間:2025-11-14
jc503-eb100提拉鍍膜機(jī)是一款基本型提拉鍍膜機(jī)，可自動(dòng)完成在鍍膜溶液中多次鍍膜之需求，重復(fù)鍍膜次數(shù)可達(dá)999次。所有運(yùn)行參數(shù)如運(yùn)行速度，提拉/浸漬高度，浸漬時(shí)間，間隔時(shí)間，重復(fù)鍍膜次數(shù)等均可在觸屏上方便設(shè)置。
更新時(shí)間:2025-11-14
xf801-150mm 六工位旋轉(zhuǎn)提拉鍍膜機(jī)浸漬提拉過程中按配方任意間隔旋轉(zhuǎn)
更新時(shí)間:2025-11-14
運(yùn)行平穩(wěn)無抖動(dòng)，液面無振動(dòng)，可保證設(shè)備的穩(wěn)定性以及成膜的均勻性。 · 自主研發(fā)的程序控制系統(tǒng)，簡潔明了、操作方便。
更新時(shí)間:2025-11-14
本設(shè)備適用于高精密光通訊產(chǎn)品鍍制光學(xué)膜， 電學(xué)膜、金屬膜、激光膜、冷光膜、分光膜、增透膜、各種濾光片、玻璃片及塑膠（樹脂）件上鍍制增透膜和截止膜等各種膜系鍍膜。為滿足廣大用戶的不同需求，我公司可接受多種形式的真空鍍膜機(jī)的定制要求，包括對真空室體尺寸、真空系統(tǒng)配置、工件夾具系統(tǒng)、工件烘烤系統(tǒng)、膜厚監(jiān)控系統(tǒng)、蒸發(fā)源系統(tǒng)、充氣系統(tǒng)、離子源系統(tǒng)以及電氣控制系統(tǒng)的特殊定制。
更新時(shí)間:2025-11-12
該設(shè)備可選配電阻、電子束或電阻電子束復(fù)合鍍膜系統(tǒng)，過流部件均采用sus304制造，真空系統(tǒng)后置，標(biāo)準(zhǔn)配置分子泵系統(tǒng)，標(biāo)配工業(yè)級人機(jī)界面和西門子plc系統(tǒng)，手動(dòng)和自動(dòng)模式自由切換，能夠滿足工業(yè)客戶小批量生產(chǎn)和科研院所客戶科研實(shí)驗(yàn)的需求。該系列設(shè)備不提供全手動(dòng)操作控制系統(tǒng)。
更新時(shí)間:2025-10-23
全自動(dòng)熱蒸發(fā)鍍碳儀蒸碳儀噴碳儀鍍膜儀 納米碳膜實(shí)驗(yàn)室儀器優(yōu)勢看得見：1. 7英寸彩色觸摸屏，全數(shù)字顯示，直觀清晰；2. 具備脈沖加熱和連續(xù)加熱兩種工作模式，適用各種不同的樣品；3. 自動(dòng)檢測每根碳繩的狀態(tài)，并在鍍膜過程中自動(dòng)切換；4. 每根碳繩使用會進(jìn)行自動(dòng)除氣，確保碳膜的純凈度；5. 操作非常簡單，多只需設(shè)置兩個(gè)參數(shù)即可；
更新時(shí)間:2025-10-21
浸涂機(jī)nadetech nd-dc是一種完全自動(dòng)化的單元，用于通過浸涂法制造薄膜。其設(shè)計(jì)和可編程軟件允許以高精度和可重復(fù)性控制和自動(dòng)化每個(gè)沉積參數(shù)。nd-dc用于通過浸涂技術(shù)獲得具有一層或多層的納米涂層，例如溶膠-凝膠，聚合物層，自組裝單層膜和各種生物膜。
更新時(shí)間:2025-10-15
比利時(shí)almeco鼓風(fēng)機(jī)，德國總部直接采購，原裝，貨期，支持技術(shù)選型，為您提供一對一優(yōu)勢解決方案：赫爾納大連公司在中國設(shè)有10個(gè)辦事處，可為您提供的維修服務(wù)。
更新時(shí)間:2025-09-27
技術(shù)參數(shù)：l自動(dòng)的換氣與泄氣功能，可以得到一致的膜厚，和佳的導(dǎo)電噴鍍效果。l通過高效低壓直流磁控頭進(jìn)行冷態(tài)精細(xì)的噴鍍過程，避免樣品表面受損。
更新時(shí)間:2025-09-27
多靶復(fù)合磁控濺射鍍膜機(jī)，可滿足合金膜、單層膜、多層膜、導(dǎo)電膜、非導(dǎo)電膜和反應(yīng)濺射的需要，具有極高的實(shí)用性和通用性（三靶、垂直與共濺射合一、在線清洗基片等），能夠提供高水平功能薄膜研制
更新時(shí)間:2025-09-11
縱向式cat-cvd設(shè)備ccv系列ccv series是a-si鍍膜用的縱向式cvd設(shè)備。有30年以上的量產(chǎn)實(shí)績。在各個(gè)chamber通過低壓鍍膜，得到高品質(zhì)的膜質(zhì)。
更新時(shí)間:2025-09-09
枚葉式pecvd設(shè)備cme-200e/400枚葉式pe-cvd設(shè)備cme-200e/400是適用于si系絕緣膜、barrier膜等成膜的量產(chǎn)用pecvd設(shè)備。
更新時(shí)間:2025-09-09
load-lock式plasma cvd設(shè)備 cc-200/400load-lock式plasma cvd設(shè)備cc-200/400是小型的使用便利的可對應(yīng)從研究開發(fā)到量產(chǎn)的設(shè)備。
更新時(shí)間:2025-09-09
枚葉式等離子cvd設(shè)備cmd系列cmd系列是用sih4和teos成膜的a-si膜、氧化硅膜、氮化膜成膜用的枚葉式cvd設(shè)備。
更新時(shí)間:2025-09-09
貝富克風(fēng)機(jī)2hb730-ah26 貝富克高壓風(fēng)機(jī)，大風(fēng)量 高壓力。風(fēng)量420立方壓力-260/310mpar高壓、大風(fēng)量、低噪音、輕量化 采用鋁合金材質(zhì)，大幅降低重量，達(dá)到輕量化的目的。 馬達(dá)為i.e.c設(shè)計(jì)（1hp以上），全閉外扇形鋁框馬達(dá)，特殊軸設(shè)計(jì)，可適合長時(shí)間使用。 特殊葉片設(shè)計(jì)，壓力大、風(fēng)量大、低噪音、壽命長
更新時(shí)間:2025-09-02
大風(fēng)量風(fēng)機(jī) 2xb730-h37風(fēng)帕克風(fēng)機(jī) 4kw 380v 風(fēng)量每小時(shí)420立方 -260/310mpar高壓、大風(fēng)量、低噪音、輕量化 采用鋁合金材質(zhì)，大幅降低重量，達(dá)到輕量化的目的。 馬達(dá)為i.e.c設(shè)計(jì)（1hp以上），全閉外扇形鋁框馬達(dá)，特殊軸設(shè)計(jì)，可適合長時(shí)間使用。 特殊葉片設(shè)計(jì)，壓力大、風(fēng)量大、低噪音、壽命長
更新時(shí)間:2025-09-02
除濕設(shè)備風(fēng)機(jī) 2xb910-h07貝富克風(fēng)機(jī) 高壓力大風(fēng)量 適用于切紙機(jī)、卷煙濾嘴成型機(jī)、電鍍槽液攪拌、霧化干燥機(jī)、水處理曝氣、絲網(wǎng)印刷機(jī)、照相制版機(jī)、注塑機(jī)自動(dòng)上料烘干機(jī)、液體灌裝機(jī)、電焊設(shè)備、電影機(jī)械、紙張運(yùn)送、干洗衣服、清洗、空氣除塵、干瓶、氣體傳送、送料、收集等方面。
更新時(shí)間:2025-09-02
上海伯東代理剝離成形電子束設(shè)備可以準(zhǔn)確的控制蒸發(fā)速度, 因此薄膜厚度和均勻度皆小于 ±3％, 客制化的基板尺寸, 大直徑可達(dá) 12寸晶圓, 腔體的限真空度約為 10-8 torr.
更新時(shí)間:2025-08-18
上海伯東代理美國原裝進(jìn)口 kri 射頻離子源 rficp 140 是一款緊湊的有柵離子源, 非常適用于離子束濺射沉積, 離子輔助沉積和離子束刻蝕. 在離子束濺射工藝中，射頻離子源 rficp 140 配有離子光學(xué)元件, 可以很好的控制離子束去濺射靶材, 實(shí)現(xiàn)更佳的薄膜特性. 同樣的在離子束輔助沉積和離子束刻蝕工藝中, 離子光學(xué)元件能夠完成發(fā)散和聚集離子束的任務(wù). 就標(biāo)準(zhǔn)的型號而言, 可以在離子能
更新時(shí)間:2025-08-18
上海伯東代理 syskey 臺灣矽碁科技超高真空電子束蒸鍍設(shè)備腔體限真空度約為 10-10torr, 針對超高真空和高溫加熱設(shè)計(jì)基板旋轉(zhuǎn)鍍膜機(jī)構(gòu), 使用陶瓷培林旋轉(zhuǎn), 并在內(nèi)部做水冷循環(huán)來保護(hù)機(jī)構(gòu)以確保長時(shí)間運(yùn)轉(zhuǎn)的穩(wěn)定性, 可以提供高質(zhì)量的薄膜, 薄膜均勻度小于 ±3％.
更新時(shí)間:2025-08-18
上海伯東代理美國原裝進(jìn)口 kri 射頻離子源 rficp 220 高能量柵離子源, 適用于離子濺鍍, 離子沉積和離子蝕刻. 在離子束濺射工藝中, 射頻離子源 rficp 220 配有離子光學(xué)元件, 可以很好的控制離子束去濺射靶材, 實(shí)現(xiàn)更佳的薄膜特性. 同樣的在離子束輔助沉積和離子束刻蝕工藝中, 離子光學(xué)元件能夠完成發(fā)散和聚集離子束的任務(wù). 標(biāo)準(zhǔn)配置下射頻離子源 rficp 220 離子能量范圍
更新時(shí)間:2025-08-18
上海伯東代理 syskey 臺灣矽碁科技電子束蒸鍍設(shè)備是一種實(shí)用且高度可靠的系統(tǒng), 蒸鍍系統(tǒng)可針對量產(chǎn)使用單一坩堝也可以有多個(gè)坩堝來達(dá)到產(chǎn)品多層膜結(jié)構(gòu). 在基板乘載上針對半導(dǎo)體研究和大型設(shè)備設(shè)計(jì), 單片和多片公自轉(zhuǎn)的設(shè)計(jì)可以控制蒸發(fā)速率, 薄膜厚度和均勻度小于 +/- 3％. 腔體的限真空度約為 10-8 torr. 為了獲得盡可能大的制程靈活性, 可以結(jié)合美國 kri 離子源進(jìn)行離子輔助沉積或
更新時(shí)間:2025-08-18
最新產(chǎn)品
- 上海祥樹優(yōu)勢供應(yīng) WEBER備件 2025/12/16 22:58:14
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