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該設備是一款小型磁控濺射鍍膜儀，主要特點是設備體積小，結構簡單緊湊易于操作，對實驗室供電要求低；該系列設備主要部件采用進口或者國內最優的配置，從而提高設備的穩定性；另外自主開發的智能操作系統在設備的運行重復性及安全性方面得到更好地保障。該設備標配2只φ2英寸永磁靶，一臺500w直流濺射電源（用于濺射金屬導電材料），1臺300w全自動匹配射頻濺射電源（用于
更新時間:2025-12-16
系統由真空腔室（外延室、進樣室）、樣品傳遞機構、樣品架、旋轉靶臺、真空排氣、真空測量、電器控制、配氣、計算機控制等各部分組成。1、★★外延室：極限真空優于：5.0x10-8pa真空漏率小于2.0x10-8pa.l/s
更新時間:2025-12-16
本設備可以在不破壞真空或是保護氣氛的情況下進行樣品的反轉熔煉，可以同時制備多個樣品（7個以下），用于新型合金材料的制備、提純及混合應用，也可以用于熔煉高熔點金屬/合金，電弧法制備大塊非晶材料。本設備采用雙層水冷結構，配備水冷循環機（加去離子水）使設備可以快速冷卻，適用于高校、科研院所及企業進行真空冶金新材料的科研與小批量制備。
更新時間:2025-12-16
主要應用于鐵基、鎳基、鈷基合金及其它精密合金、高溫合金、磁性材料的熔煉。 實現真空熔煉、氣氛熔煉、真空澆鑄、精密鑄造、離心鑄造、下引鑄造、定向凝固、快速冷卻、精煉提純等工藝
更新時間:2025-12-16
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