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該設(shè)備是一款小型磁控濺射鍍膜儀，主要特點(diǎn)是設(shè)備體積小，結(jié)構(gòu)簡單緊湊易于操作，對實(shí)驗(yàn)室供電要求低；該系列設(shè)備主要部件采用進(jìn)口或者國內(nèi)最優(yōu)的配置，從而提高設(shè)備的穩(wěn)定性；另外自主開發(fā)的智能操作系統(tǒng)在設(shè)備的運(yùn)行重復(fù)性及安全性方面得到更好地保障。該設(shè)備標(biāo)配2只φ2英寸永磁靶，一臺500w直流濺射電源（用于濺射金屬導(dǎo)電材料），1臺300w全自動匹配射頻濺射電源（用于

系統(tǒng)由真空腔室（外延室、進(jìn)樣室）、樣品傳遞機(jī)構(gòu)、樣品架、旋轉(zhuǎn)靶臺、真空排氣、真空測量、電器控制、配氣、計(jì)算機(jī)控制等各部分組成。1、★★外延室：極限真空優(yōu)于：5.0x10-8pa真空漏率小于2.0x10-8pa.l/s

本設(shè)備可以在不破壞真空或是保護(hù)氣氛的情況下進(jìn)行樣品的反轉(zhuǎn)熔煉，可以同時(shí)制備多個(gè)樣品（7個(gè)以下），用于新型合金材料的制備、提純及混合應(yīng)用，也可以用于熔煉高熔點(diǎn)金屬/合金，電弧法制備大塊非晶材料。本設(shè)備采用雙層水冷結(jié)構(gòu)，配備水冷循環(huán)機(jī)（加去離子水）使設(shè)備可以快速冷卻，適用于高校、科研院所及企業(yè)進(jìn)行真空冶金新材料的科研與小批量制備。

主要應(yīng)用于鐵基、鎳基、鈷基合金及其它精密合金、高溫合金、磁性材料的熔煉。　　實(shí)現(xiàn)真空熔煉、氣氛熔煉、真空澆鑄、精密鑄造、離心鑄造、下引鑄造、定向凝固、快速冷卻、精煉提純等工藝