掃描電子顯微鏡（SEM）產(chǎn)品及廠家
tomlov hdmi電源產(chǎn)品顯微鏡將傳統(tǒng)顯微鏡升級為數(shù)字可視化系統(tǒng)，讓觀察更輕松、記錄更便捷。三款產(chǎn)品以不同配置滿足從入門到專業(yè)的各類需求，是電子愛好者、收藏家和專業(yè)維修人員的實(shí)用工具。
更新時(shí)間:2025-12-15
日本電子掃描電子顯微鏡jcm-700強(qiáng)大的"zeromag"功能，讓您從光學(xué)顯微鏡的觀察方式，輕松的無縫接軌到掃描電鏡的影像觀察。"live analysis"則實(shí)現(xiàn)了sem影像觀察時(shí)實(shí)時(shí)的eds成份分析。
更新時(shí)間:2025-12-15
蔡司電腦斷層掃描測量機(jī)-多探頭測量機(jī)設(shè)備;工業(yè)計(jì)算機(jī)斷層掃描（ct）為您提供了quanxin的洞見，讓您可以快速采集所有內(nèi)部結(jié)構(gòu)的體積。蔡司是快速ct的先驅(qū)，并且能夠在生產(chǎn)周期中對組件進(jìn)行完整的以體積為基礎(chǔ)的檢查。
更新時(shí)間:2025-12-15
jsm-it800shl 是日本電子株式會社（jeol） 2020 年新推出的場發(fā)射掃描電鏡，它秉承 jeol 熱場發(fā)射掃描電鏡 jsm-7900f 的大束流，高穩(wěn)定性的傳統(tǒng)，同時(shí)將分辨率提高到新的限，全新設(shè)計(jì)的超混合型物鏡，高分辨率的獲得以及磁性樣品的觀察都可以同時(shí)完成，而且標(biāo)配 jeol 新開發(fā)的 neo
更新時(shí)間:2025-12-15
德neaspec真空太赫茲波段近場光學(xué)顯微鏡hv-thz-neasnom，該套系統(tǒng)成功地繼承了德國neaspec公司thz-neasnom的設(shè)計(jì)優(yōu)勢，采用專利保護(hù)的雙光路設(shè)計(jì)，完全可以實(shí)現(xiàn)真空環(huán)境下太赫茲波段應(yīng)用的樣品測量。hv-thz-neasnom在實(shí)現(xiàn)30nm高空間分辨率的同時(shí)，由于采用0.1-3thz波段的時(shí)域太赫茲光源（thz-tds），也可以實(shí)現(xiàn)近場太赫茲成像和圖譜的同時(shí)測量。
更新時(shí)間:2025-12-15
德國ksi i-wafer型全自動(dòng)晶圓超聲波缺陷檢測系統(tǒng)，在ksi i-wafer的探測下，晶圓中的孔隙、分層或者雜質(zhì)都能被發(fā)現(xiàn)。尺寸在450mm的多種晶圓也能進(jìn)行檢測
更新時(shí)間:2025-12-15
ksi i-ingot型全自動(dòng)晶錠分析檢測系統(tǒng),適用于對晶錠的無損檢測，有了它，晶錠內(nèi)部的裂縫或雜質(zhì)就能得到快速檢測，晶錠的尺寸可達(dá)450mm，檢測時(shí)間短，也不需要做其它設(shè)定。
更新時(shí)間:2025-12-15
ksi－nano型高分辨率表層缺陷超聲波掃描顯微鏡系統(tǒng)聲學(xué)顯微成像系統(tǒng)和光學(xué)顯微成像系統(tǒng)的完美結(jié)合
更新時(shí)間:2025-12-15
德國zeiss蔡司聚焦離子束掃描電鏡fib/sem crossbeam 350，crossbeam 550
更新時(shí)間:2025-12-15
日本jeol掃描電子顯微鏡 jsm-it200 intouchscope ，是一款更簡潔、更易于使用且性價(jià)比高的掃描電子顯微鏡。使用初學(xué)者易懂的樣品交換導(dǎo)航，可以輕松地從樣品臺搜索視野并開始觀察sem圖像。zeromag能像光鏡一樣直觀地搜索視野，live analysis*2可以不用特意分析就能實(shí)時(shí)獲取元素分析結(jié)果，smile viewtm lab能綜合編輯觀察和分析報(bào)告等。
更新時(shí)間:2025-12-15
日本jeol掃描電子顯微鏡 jsm-it500hr，采用新開發(fā)的高亮度電子槍和透鏡系統(tǒng)，可以更迅速便捷地提供令人驚嘆的高分辨率圖像、高靈敏度和高空間分辨率；從設(shè)定視野到生成報(bào)告，利用完全集成的軟件大大地提高了作業(yè)速度。
更新時(shí)間:2025-12-15
日本jeol低溫冷凍離子切片儀ib-09060cis，冷卻保持時(shí)間長，有效地抑制了熱損傷。易受熱損傷的樣品，也能方便地制作出薄膜樣品和截面樣品。
更新時(shí)間:2025-12-15
日本jeol 離子切片儀 em-09100is ，用于tem 、stem 、 sem 、 epma 和 auger樣品制備的創(chuàng)新方法 離子切片儀制備薄膜樣品比傳統(tǒng)制備工具快速、簡單。低能量、低角度（0°到6°）的氬離子束通過遮光帶照射樣品，大大降低了離子束對樣品的輻照損壞。即使是柔軟的材料,制備的薄膜質(zhì)量也好，對不同成份的樣品甚至含有多孔合成物也都能夠有效制備。
更新時(shí)間:2025-12-15
日本jeol截面樣品拋光儀ib-19530cp，采用多用途樣品臺，通過交換各種功能性樣品座實(shí)現(xiàn)了功能的多樣化。根據(jù)需要可以選擇不同的功能性樣品座，不僅能截面刻蝕，還可以進(jìn)行平面刻蝕、離子束濺射鍍膜等。
更新時(shí)間:2025-12-15
日本jeol截面樣品制備裝置ib-19530cp，采用多用途樣品臺，通過交換各種功能性樣品座實(shí)現(xiàn)了功能的多樣化。根據(jù)需要可以選擇不同的功能性樣品座，不僅能截面刻蝕，還可以進(jìn)行平面刻蝕、離子束濺射鍍膜等。
更新時(shí)間:2025-12-15
日本jeol 截面樣品拋光儀 ib-19520ccp，在加工過程中利用液氮冷卻，能減輕離子束對樣品造成的熱損傷。冷卻持續(xù)時(shí)間長、液氮消耗少的構(gòu)造設(shè)計(jì)。在裝有液氮的情況下，也能將樣品快速冷卻、恢復(fù)到室溫，并且可以拆卸。配有傳送機(jī)構(gòu)，在隔離空氣的環(huán)境下能完成從加工到觀察的全過程。
更新時(shí)間:2025-12-15
日本jeol 軟x射線分析譜儀，通過組合新開發(fā)的衍射光柵和高靈敏度ｘ射線ccd相機(jī)，實(shí)現(xiàn)了高的能量分辨率。 和eds一樣可以并行檢測，并且能以0.3ev(費(fèi)米邊處al-l基準(zhǔn))的高能量分辨率進(jìn)行分析，超過了wds的能量分辨率。
更新時(shí)間:2025-12-15
日本jeol 電子探針顯微分析儀 jxa-ihp100，可以安裝通用性強(qiáng)、使用方便的能譜儀x射線探測器，組合使用wds和eds，能提供無縫、舒適的分析環(huán)境。
更新時(shí)間:2025-12-15
日本jeol 聚焦離子束加工觀察系統(tǒng) jib-4000，配置了高性能的離子鏡筒(單束fib裝置)。被加速了的鎵離子束經(jīng)聚焦照射樣品后，就能對樣品表面進(jìn)行sim觀察 、研磨，沉積碳和鎢等材料。還可以為tem成像制備薄膜樣品，為觀察樣品內(nèi)部制備截面樣品。通過與sem像比較，sim像能清楚地顯示出歸因于晶體取向不同的電子通道襯度差異，這些都非常適合于評估多層鍍膜的截面及金屬結(jié)構(gòu)。
更新時(shí)間:2025-12-15
日本jeol 雙束加工觀察系統(tǒng) jib-4700f，該設(shè)備的sem鏡筒中采用了超級混合圓錐形物鏡、gb模式和in-lens檢測器系統(tǒng)，在1kv低加速電壓下,實(shí)現(xiàn)了1.6nm的保證分辨率,與最大能獲得300na探針電流的浸沒式肖特基電子槍組合，可以進(jìn)行高分辨率觀察和高速分析。
更新時(shí)間:2025-12-15
日本jeol 能量色散型x射線熒光分析儀 jsx-1000s，采用觸控屏操作、提供更加簡便迅速的元素分析。具備常規(guī)定性、定量分析（fp法・檢量線法）、rohs元素篩選功能等。利用豐富的硬件/軟件選配件、還能進(jìn)行更廣泛的分析。
更新時(shí)間:2025-12-15
第六代 phenom pure 是一款使用高亮度 ceb6 燈絲的高分辨臺式掃描電鏡。放大倍數(shù) 175,000 倍，用于觀察亞微米樣品的微觀結(jié)構(gòu)。pure 具有全自動(dòng)操作、15 快速抽真空、不噴金觀看絕緣體、2-3 年更換燈絲等特點(diǎn)，適用于傳統(tǒng)大電鏡待測樣品的快速篩選，也適合于光學(xué)顯微鏡的分辨率無法滿足需求的客戶。
更新時(shí)間:2025-12-12
第六代 phenom pro 臺式掃描電鏡是一款功能強(qiáng)大，輕松易用的多功能設(shè)備。長壽命、高亮度 ceb6 燈絲擴(kuò)展了研究設(shè)備的功能，結(jié)合豐富的樣品杯選件和拓展的全自動(dòng)軟件，phenom pro 可以適用于廣泛的研究域。
更新時(shí)間:2025-12-12
加快材料研究的突破性進(jìn)展，您的實(shí)驗(yàn)室需要一臺具備快速準(zhǔn)確分析大量材料微觀結(jié)構(gòu)的掃描電鏡。第六代 phenom prox 飛納臺式掃描電鏡能譜一體機(jī)引入了全新一代操作系統(tǒng)，通過改進(jìn)光路設(shè)計(jì)，將分辨率提升到新高度。能譜操作界面與能譜算法進(jìn)一步升，易于操作，元素分析更快速。
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phenom 飛納煙草紙張領(lǐng)域掃描電子顯微鏡
更新時(shí)間:2025-12-12
放大倍數(shù)：20000x；分辨率：優(yōu)于30nm；燈絲：1500小時(shí)ceb6燈絲抽真空時(shí)間：10；樣品移動(dòng)方式：自動(dòng)馬達(dá)樣品臺樣品定位方式：光學(xué)和低倍電子雙重導(dǎo)航樣品導(dǎo)電性要求：無需噴金，直接觀測絕緣體
更新時(shí)間:2025-12-12
加快材料研究的突破性進(jìn)展，您的實(shí)驗(yàn)室需要一臺具備快速準(zhǔn)確分析大量材料微觀結(jié)構(gòu)的掃描電鏡。第六代 phenom prox 飛納臺式掃描電鏡能譜一體機(jī)引入了全新一代操作系統(tǒng)，通過改進(jìn)光路設(shè)計(jì)，將分辨率提升到新高度。能譜操作界面與能譜算法進(jìn)一步升，易于操作，元素分析更快速。
更新時(shí)間:2025-12-12
加快材料研究的突破性進(jìn)展，您的實(shí)驗(yàn)室需要一臺具備快速準(zhǔn)確分析大量材料微觀結(jié)構(gòu)的掃描電鏡。第六代 phenom prox 飛納臺式掃描電鏡能譜一體機(jī)引入了全新一代操作系統(tǒng)，通過改進(jìn)光路設(shè)計(jì)，將分辨率提升到新高度。能譜操作界面與能譜算法進(jìn)一步升，易于操作，元素分析更快速。
更新時(shí)間:2025-12-12
加快材料研究的突破性進(jìn)展，您的實(shí)驗(yàn)室需要一臺具備快速準(zhǔn)確分析大量材料微觀結(jié)構(gòu)的掃描電鏡。第六代 phenom prox 飛納臺式掃描電鏡能譜一體機(jī)引入了全新一代操作系統(tǒng)，通過改進(jìn)光路設(shè)計(jì)，將分辨率提升到新高度。能譜操作界面與能譜算法進(jìn)一步升，易于操作，元素分析更快速。
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第六代 phenom pro 臺式掃描電鏡是一款功能強(qiáng)大，輕松易用的多功能設(shè)備。長壽命、高亮度 ceb6 燈絲擴(kuò)展了研究設(shè)備的功能，結(jié) 合豐富的樣品杯選件和拓展的全自動(dòng)軟件，phenom pro 可以適用于廣泛的研究域。
更新時(shí)間:2025-12-12
第六代 phenom pure 是一款使用高亮度 ceb6 燈絲的高分辨臺式掃描電鏡。放大倍數(shù) 175,000 倍，用于觀察納米或者亞微米樣品的微觀結(jié)構(gòu)。基于高亮度 ceb6 燈絲和全新的聚焦系統(tǒng)，phenom pure 的分辨率輕松達(dá)到 10 nm，同時(shí)具有全自動(dòng)操作、15 快速抽真空、不噴金觀看絕緣體、2-3 年更換燈絲等特點(diǎn)。
更新時(shí)間:2025-12-12
第六代 phenom pro 臺式掃描電鏡是一款功能強(qiáng)大，輕松易用的多功能設(shè)備。長壽命、高亮度 ceb6 燈絲擴(kuò)展了研究設(shè)備的功能，結(jié) 合豐富的樣品杯選件和拓展的全自動(dòng)軟件，phenom pro 可以適用于廣泛的研究域。
更新時(shí)間:2025-12-12
飛納掃描電鏡是一款使用高亮度 ceb6 燈絲的高分辨臺式掃描電鏡。放大倍數(shù) 350,000 倍，用于觀察納米或者亞微米樣品的微觀結(jié)構(gòu)。
更新時(shí)間:2025-12-12
全新的易于學(xué)習(xí)的界面可幫助您快速掌握新信息，是各種應(yīng)用的理想選擇。phenom xl g2 升為全面屏成像，平均成像時(shí)間僅為 40 ，比市場上其他臺式電鏡的速度快 5 倍之多。系統(tǒng)可對大 100 x 100mm 的樣品進(jìn)行分析，8nm 的分辨率為分析提供更多的細(xì)節(jié)。利設(shè)計(jì)的放氣/樣品裝載系統(tǒng)可以實(shí)現(xiàn)全快的放氣/裝載速度，并獲得大的樣品吞吐效率。
更新時(shí)間:2025-12-12
荷蘭飛納公司隆重推出第三代飛納臺式大倉室自動(dòng)化掃描電鏡 phenom xl g3
更新時(shí)間:2025-12-12
加快材料研究的突破性進(jìn)展，您的實(shí)驗(yàn)室需要一臺具備快速準(zhǔn)確分析大量材料微觀結(jié)構(gòu)的掃描電鏡。第六代 phenom prox 飛納臺式掃描電鏡能譜一體機(jī)引入了全新一代操作系統(tǒng)，通過改進(jìn)光路設(shè)計(jì)，將分辨率提升到新高度。能譜操作界面與能譜算法進(jìn)一步升，易于操作，元素分析更快速。
更新時(shí)間:2025-12-12
phenom pro 是飛納（phenom）第七代高分辨率臺式掃描電鏡，采用一代 高亮度 ceb? 燈絲 與優(yōu)化的電子光學(xué)系統(tǒng)，實(shí)現(xiàn) 優(yōu)于 6 nm 分辨率，最高放大 350,000×， 輕松完成納米級與亞微米級材料的微觀形貌觀察。相比上一代產(chǎn)品，分辨率提升約 20％，新增 實(shí)時(shí) bse/se 混合圖像（mix） 功能，為科研與工業(yè)檢測帶來更高效率與更精確的微觀分析體驗(yàn)。
更新時(shí)間:2025-12-12
的易于學(xué)習(xí)的界面可幫助您快速掌握信息，是各種應(yīng)用的理想選擇。phenom xl g3 平均成像時(shí)間僅為 40 秒，比市場上其他臺式電鏡的速度快 5 倍之多。系統(tǒng)可對最大 100 x 100mm 的樣品進(jìn)行分析，8nm 的分辨率為分析提供更多的細(xì)節(jié)。專利設(shè)計(jì)的放氣 / 樣品裝載系統(tǒng)可以實(shí)現(xiàn)全世界相對較快的放氣 / 裝載速度，并獲得非常少有的比較高的樣品吞吐效率。
更新時(shí)間:2025-12-12
飛納電鏡能譜一體機(jī) phenom prox 是終的集成化成像分析系統(tǒng)。借助該系統(tǒng)，既可觀察樣品的表面形貌，又可分析其元素組分。
更新時(shí)間:2025-12-12
適用金屬和礦物研究—飛納電鏡chemiphase物相分析軟件更容易，更全面，更準(zhǔn)確的物相分析
更新時(shí)間:2025-12-12
飛納電鏡推出的 chemisem 技術(shù)，將 sem 形貌觀察與 eds 成分分析相結(jié)合，讓工作流程更加流暢，簡化了許多材料（包括金屬、陶瓷、電池、涂層、水泥和軟物質(zhì)材料等）的分析流程：通過彩色元素分布圖與 sem 圖像的實(shí)時(shí)疊加，在成像同時(shí)提供高質(zhì)量的成分定性定量信息。
更新時(shí)間:2025-12-12
phenom maps 作為一款多模態(tài)多維度地圖式圖像自動(dòng)采集及拼接軟件，可自動(dòng)獲取大型圖像數(shù)據(jù)集，并直觀地組合和關(guān)聯(lián)多種成像、分析模式，從而提供多尺度和多模態(tài)的表征數(shù)據(jù)。
更新時(shí)間:2025-12-12
的易于學(xué)習(xí)的界面可幫助您快速掌握信息，是各種應(yīng)用的理想選擇。phenom xl g3 平均成像時(shí)間僅為 40 秒，比市場上其他臺式電鏡的速度快 5 倍之多。系統(tǒng)可對最大 100 x 100mm 的樣品進(jìn)行分析，8nm 的分辨率為分析提供更多的細(xì)節(jié)。專利設(shè)計(jì)的放氣 / 樣品裝載系統(tǒng)可以實(shí)現(xiàn)全世界相對較快的放氣 / 裝載速度，并獲得非常少有的比較高的樣品吞吐效率。
更新時(shí)間:2025-12-12
cv1000采用了雙nipkow轉(zhuǎn)盤共聚焦掃描器，它可以將活細(xì)胞成像實(shí)驗(yàn)中的光毒性和光漂白性降到低。在整個(gè)實(shí)驗(yàn)期間，該系統(tǒng)的培養(yǎng)平臺可以保持實(shí)驗(yàn)樣本（如柔弱的胚胎、ips/es細(xì)胞以及其它類型的細(xì)胞）的活性和溫度的恒定。
更新時(shí)間:2025-12-12
phenom(飛納) g2 pure（飛納臺式掃描電鏡 標(biāo)準(zhǔn)版） 款性能和價(jià)格介于光學(xué)顯微鏡和傳統(tǒng)大電鏡之間的經(jīng)濟(jì)型臺式掃描電鏡，可用于測量亞微米尺寸的樣品。phenom g2 pure 適用于傳統(tǒng)大電鏡待測樣品的快速篩選，也適合于光學(xué)顯微鏡的分辨率無法滿足需求的客戶。
更新時(shí)間:2025-12-12
最新產(chǎn)品
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