場發射掃描電鏡產品及廠家
thermo scientific helios 5 d ualbeam 產品系列憑借其最先進的聚焦離子束和電子束性能、專有軟件、自動化和易用性特征，重新定義了樣品制備和三維表征的標準。
更新時間:2025-12-15
jem-3200fs場發射電子顯微鏡配備了高加速電壓為300kv的場發射電子槍（feg）和鏡筒內置式ω型能量過濾器，能為廣泛的研究域提供各種全新的解決方案。
更新時間:2025-12-15
超大樣品臺（標配，僅適用于 phenom xl）phenom xl 電鏡腔室由原來的 32 mm 擴容為 100 mm x 100 mm，一次可容納至多 36 個 1/2 英寸樣品臺樣品最大尺寸：長 100 mm；寬 100 mm；高度 65 mm用這個樣品臺可以對各種各樣的樣品成像
更新時間:2025-12-12
設計用于冶金/金相樣品的觀察（鑲嵌在樹脂里）最大尺寸：直徑32mm；高度30mm
更新時間:2025-12-12
第六代 phenom pure 是一款使用高亮度 ceb6 燈絲的高分辨臺式掃描電鏡。放大倍數 175,000 倍，用于觀察納米或者亞微米樣品的微觀結構。基于高亮度 ceb6 燈絲和全新的聚焦系統，phenom pure 的分辨率輕松達到 10 nm，同時具有全自動操作、15 快速抽真空、不噴金觀看絕緣體、2-3 年更換燈絲等特點。
更新時間:2025-12-12
第七代 phenom pure 是一款使用高亮度 ceb6 燈絲的高分辨臺式掃描電鏡。放大倍數 175,000 倍，用于觀察納米或者亞微米樣品的微觀結構。基于高亮度 ceb6 燈絲和的聚焦系統，phenom pure 的分辨率輕松達到 10 nm，同時具有全自動操作、15 快速抽真空、不噴金觀看絕緣體、平均 5 年更換燈絲等特點。
更新時間:2025-12-12
秉承飛納臺式掃描電鏡系列全自動操作、快速成像、不噴金觀看不導電樣品、完全防震、性能穩定的特點，荷蘭飛納公司推出第二代肖特基場發射電子源臺式掃描電鏡 phenom pharos g2, 集背散射電子成像、二次電子成像和能譜分析功能于一體。高亮度肖特基場發射電子源，使用戶可以輕松獲得高分辨率圖像，分辨率優于 1.5nm
更新時間:2025-12-12
phenom pharos g2 是荷蘭飛納推出的第二代 肖特基場發射電子源臺式掃描電鏡（桌面場發射 sem）。設備集 背散射電子成像（bse）+ 二次電子成像（se）+ 集成能譜分析（eds） 于一體，實現科研級微觀表征的高分辨率、高效率與全自動化。
更新時間:2025-12-12
2020年即將到來，隨著人們生活水平的不斷提高，對雞、鴨、鵝的需求量也不斷增加，農村飼養的土雞肉質好、味道鮮，深受消費者喜歡。但由于它生長速度慢，因而養殖者的總體經濟效益不高，育雛對室溫的要求比較嚴格
更新時間:2025-12-05
熱風機 燃油熱風爐主要應用于養殖育雛、工業廠房采暖、農業大棚加溫，由于燃油熱風機移動方便，升溫迅速，熱風溫度穩定，不會出現忽冷忽熱現象，機器自帶恒溫功能，當溫度到達設置溫度之后即停止耗油，低于設置溫度
更新時間:2025-12-05
安捷倫8500fe-sem為研究者提供場發射掃描電鏡。這個緊湊、創新的系統優化了低電壓成像，特別是表面高對比度，可以得到一般在更大，更昂貴的場發射顯微鏡才能得到的分辨率。8500安裝使用很方便，不需特別的場地要求，只需一個接線板。設計緊湊，為實驗室中的研究者提供了以前只有傳統場發射電鏡才能得到的性能。8500經過精心設計，可以提供持續，可重復的性能，成本是業界最低的
更新時間:2025-12-02
shnti的x-射線薄膜窗能夠實現軟x-射線(如真空紫外線)的最大透射率。主要用于同步輻射x射線透射顯微成像時承載樣品。 x-射線越軟(能量越低)，穿透能力越差，所需氮化硅薄膜窗越薄。特別在“離軸”狀態工作（即薄膜與光束成一定角度）時，也需要較薄的薄膜窗口，便于x射線更好地穿透。
更新時間:2025-12-02
可用于測試各種類型發光體，如激光器、等離子體、白熾燈、熒光燈、led、紅外光源等發射光譜 （原子光譜、連續光譜等）分布情況。
更新時間:2025-12-02
sigma是一款具有 gemini 鏡筒設計，用于成像及分析應用的高性能熱場發射掃描電鏡。gemini 鏡筒的特點是高亮度肖特基場發射電子源、電子束加速器和 in-lens 二次電子探測器。在獲得高成像質量的基礎上還具有良好的易用性。
更新時間:2025-12-02
zeiss商業化電鏡的歷史和經驗已超過60年，其技術先進、性能卓越，在失效分析以及各種分析研究中具有廣泛的應用。zeiss不斷追求、推出新的技術和新的產品，使其成為不僅可拍攝高分辨率圖像，還可以完成各種各樣的分析研究，更加體現zeiss電子顯微鏡高價值 和高利用性。
更新時間:2025-12-02
zeiss σigma 電鏡為肖特基（schottky）熱場發射掃描電鏡。目前歐美地區比較推崇熱場發射電鏡，而日本較熱衷于冷場發射電鏡。該場發射掃描電鏡主要有如下特點：
更新時間:2025-12-02
日立tm4000掃描電鏡獨特的低真空系統使得樣品不需任何處理即可快速進行觀察。tm4000優化提供5kv、10kv、15kv三種不同電壓下的觀察模式，每種模式下電流4檔可調，并配備4分割背散射探測器，可采集四個不同方向的圖像信息，對樣品進行多種模式成像。
更新時間:2025-12-02
· hexbias偏壓鎢燈絲電子槍； · 的高、低電壓性能； · 高靈敏度五分割背散射電子探測器； · 可變壓力二次電子探測器（高、低真空可用）； · 的操作界面和光鏡導航功能；
更新時間:2025-12-02
現有機型su8240,su8230,su8220及su8010重新整合，衍生而成regulus8240、regulus8230、regulus8220、regulus8100。"regulus系列"繼承了現有機型的觀察和分析性能，配備su8200系列的低噪音冷場發射電子槍*1，可以獲得高穩定的束流。
更新時間:2025-12-02
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更新時間:2025-12-01
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更新時間:2025-12-01
【hitachi】冷場發射掃描電鏡regulus8100易維護、易操作等優點，進一步提高性能，1kv減速模式下最高分辨率達到了0.8nm，15kv達到0.7nm，高低電壓均可滿足高分辨的觀察。
更新時間:2025-12-01
【hitachi】日立高性能鎢燈絲掃描電鏡su3500通過高畫質提升掃描電鏡的分析能力和操作性, 凝聚日立最先進科技“獨具匠心”。
更新時間:2025-12-01
【hitachi】日立新型熱場發射掃描電鏡su5000高穩定性熱場發射電子槍， 全新的em wizard軟件，無需設置參數即可獲得高質量圖片，高分辨率和強大的分析能力，樣品適用性強：不導電樣品直接觀察（低真空功能，10-300pa）
更新時間:2025-12-01
日立新型鎢燈絲掃描電鏡flexsem1000 ii 體積小、操作簡單、性能強（4nm@20kv）、擴展功能豐富2. 擁有多個探測器（se、bse）3. 擁有低真空功能，不導電和含水樣品直接觀察
更新時間:2025-12-01
日立l型fib-sem-ar三束系統nx9000能夠獲得一系列的截面圖像，從而實現特定顯微切片的三維結構分析。nx9000中的sem鏡筒和fib鏡筒呈正交結構，而不是常見的對角構造。
更新時間:2025-12-01
日立高分辨型雙束系統nx5000可以避免樣品損傷，為超薄樣品和復雜的制備提供了新的解決方案，可以滿足納米材料、半導體材料、生物材料等多種樣品的快速、無損、精細加工。
更新時間:2025-12-01
"regulus系列"是日立高新技術的fe-sem的全新品牌，包括作為su8010的后續機型開發的 "regulus8100" 以及su8200系列的升級 "regulus8220" "regulus8230" "regulus8240"，共4個機型，均實現了分辨率和操作性的強化。
更新時間:2025-12-01
【hitachi】日立新型臺式掃描電鏡tm4000plus可在樣品倉內加裝光學相機來拍攝照片，以往通過經驗尋找目標位置*1，現在可在顯示屏上直接操作。在拍攝sem圖像時，由于“tm4000”和“tm4000plus”配置雙軸馬達臺*2，原來需手動調整的操作，現在只需在顯示器上選擇要觀察的位置即可。
更新時間:2025-12-01
【hitachi】日立120kv透射電鏡ht7800 很好地繼承了日立120kv-tem的基本理念，兼顧低倍率與寬視野觀察、高襯度與高分辨率觀察，可在同一儀器上一鍵切換等。集高襯度和高分辨兩種模式于一體，可同時滿足軟材料/納米材料類和生命科學類客戶對電鏡的需求。
更新時間:2025-12-01
【hitachi】su9000新型超高分辨冷場發射掃描電鏡采取了全新改進的真空系統和電子光學系統，不僅分辨率性能明顯提升，而且作為一款冷場發射掃描電鏡甚至不需要傳統意義上的flashing操作，可以高效率的快速獲取樣品超高分辨掃描電鏡圖像。
更新時間:2025-12-01
日立全新大型鎢燈絲掃描電鏡su3900采用超大的樣品倉和多接口設計，適合超大樣品的觀察（直徑300mm）以及多種分析功能的拓展。同
更新時間:2025-12-01
日立高分辨鎢燈絲掃描電鏡su3800采用全新的hexbias偏壓技術，使其低電壓性能大大提升，同時升級的高靈敏度背散射探測器和可變壓力探測器使得su3800的觀察能力進一步提升。
更新時間:2025-12-01
日立透射電鏡ht7820 繼承了標準版ht7800高速cmos熒光屏相機設計、全數字化、大集成等優點和創新點，仍然采用第二代雙隙物鏡的設計，設計使用高分辨物鏡，標配lab6燈絲，性能實現突破性提升。
更新時間:2025-12-01
tima3 lmu/lmh feg是一款基于場發射掃描電子顯微鏡設計的集成式礦物分析專家，適用于采礦和礦物處理行業的應用。tescan的獨特技術是基于一個完全集成的edx系統，能以非常快的速度執行全譜掃描，可用于礦石特性檢測、工藝優化、修復技術和貴金屬與稀土的尋找。sem和edx硬件的集成水平實現了以前所未有的采集速度完全自動化的數據采集，并得到快速、準確和可靠的結果
更新時間:2025-12-01
日本電子jsm-7001f熱場發射掃描電子顯微鏡（thermal field emission sem），是能夠滿足與高分辨率和易用性同樣的分析應用需求的理想平臺。具有大型、5軸、全對中馬達驅動自動化樣品臺,還有單動作樣品更換氣鎖、它的小束口壓直徑，即使在大電流和低電壓時，也具有適用于eds、wds、ebsp和cl的理想結構的擴充性。樣品室可處理直徑最大為 200mm的樣品。0755-3150
更新時間:2025-12-01
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