清洗機產品及廠家
hpc系列小型等離子清洗系統是臺式等離子處理設備領域當之無愧的領先者，我們專為實驗室研發提供性價比高的小型等離子清洗設備，已經有30多年的豐富經驗。
更新時間:2025-12-16
hpc系列小型等離子清洗系統是臺式等離子處理設備領域當之無愧的領先者，我們專為實驗室研發提供性價比高的小型等離子清洗設備，已經有30多年的豐富經驗。
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hpc系列小型等離子清洗系統是臺式等離子處理設備領域當之無愧的領先者，我們專為實驗室研發提供性價比高的小型等離子清洗設備，已經有30多年的豐富經驗。
更新時間:2025-12-16
我們所提供的紫外臭氧清洗系統是一種簡單，經濟，高效的材料表面清洗設備。只需把樣品放置到托盤上，關上艙門，設置時間，按下運行按鈕，就可以在幾分鐘內，快速去除大多數無機基材上的有機污染物，為您提供超潔凈的表面。通過使用高功率紫外線光源產生臭氧，將污染物分解成揮發性化合物。這些揮發性化合物從表面蒸發而不留痕跡。這種方法可產生接近原子級的清潔表面并且不會損壞樣品。
更新時間:2025-12-16
等離子清洗機清除樣品表面的污染物，去除光阻膠：產生表面活性功能組；清洗提高材料表面親水性及疏水性，清洗生物芯片、微流控芯片，pdms；表面活化：渲染表面的親水性或疏水性，鍵合和沉積前的表面預處理表面聚合：沉積帶官能分子團的聚合物，移植聚合物到活化后的材料表面；表面改性：在材料表面產生官能分子團，高分子材料表面修飾；去除表面殘留微生物，醫療器械的消毒和殺菌；
更新時間:2025-12-16
ergeo em型sem及tem樣品/樣品桿清潔專用等離子清潔儀美國pie scientific專注研發先進的實驗室用等離子儀器，用于sem/tem樣品清潔、光刻膠蝕刻、等離子體增強沉積、表面處理與活化。我們的宗旨是：將半導體和核工程研究中開發的最新等離子技術集成到經濟實用的實驗室用等離子儀器。專為去除sem & tem樣品的碳氫污染而設計。特有的雙清洗模式（immersion和downstream）能夠處理各種不同的樣品，從嚴重污染的電子光學孔徑光闌到各種脆弱易損樣品，如石墨烯、碳納米管、類金剛石碳膜以及多孔碳支持膜銅網上的tem樣品。石英樣品托板上的孔洞可以安裝標準sem樣品托。特別設計的適配器可以清潔不同廠家的tem樣品桿。
更新時間:2025-12-16
美國pie出品的em-kleen型遠程等離子清潔儀，廣泛用于sem掃描電鏡,fib聚焦離子束雙束電鏡,tem透射電鏡,xps_x射線光電子能譜分析儀,ald原子層沉積系統,cd-sem, ebr, ebi, euvl和其它高真空系統，可同時清潔真空腔室和樣品！污染物對電子顯微鏡sem/tem和其它高真空系統產生的影響
更新時間:2025-12-16
psd系列產品是數字控制的臺式清洗設備，可以提供4×4英寸至12×16英寸的清洗尺寸。設備配備一個帶反射罩的高強度uv格柵燈盤, 和可調節高度的樣品臺，用于優化樣品位置和清洗效果。4英寸或者更大尺寸的系統具有進出氣接口。該系統由一個方便的預設置控制器控制，非常容易操作。
更新時間:2025-12-16
清洗設備的核心是低壓石英汞燈，產生254和185nm范圍的紫外線。臭氧和等離子氧氣產生，有機污染物分子在吸收254nm波長紫外線后被激發或分解。激發的有機污染物可以和等離子氧原子反應形成氣體，比如co2,h2o等。整個過程在室溫**發生，并且只需要1到幾分鐘完成。
更新時間:2025-12-16
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