加熱爐/電爐產品及廠家
真空熱壓燒結爐材料的高溫熱成型實驗爐應用于透明陶瓷、工業陶瓷等金屬以及由難容金屬組成的合金材料的真空燒結以及陶瓷材料碳化硅和氮化硅的高溫燒結
更新時間:2025-12-16
真空熱壓燒結爐材料真空燒結成型實驗爐加熱保溫及測溫系統:加熱系統采用國產電阻絲，保＊了溫度均勻性。保溫材料采用國產爐膛材料，不掉粉、材料保溫性能好、反射率高、溫場均衡，抗熱漲冷縮能力強。
更新時間:2025-12-16
退火過程：在強磁場（或無磁）環境下對樣品進行加熱，加熱到一定溫度（用戶需要自己設定）并保持在該溫度，再持續加一個磁場（可隨時變化），達到用戶的目的后，關閉磁場，關閉加熱環境，冷卻到室溫。
更新時間:2025-12-16
高溫真空磁場退火爐水冷反饋調節的加熱系統真空環境：通過分子泵組獲得真空環境，由＊真空全量程真空計顯示并監控，并實時的將檢測結果傳遞給計算機。
更新時間:2025-12-16
真空熱壓燒結爐304不銹鋼爐體材料燒結實驗充氣系統：由各種管道和閥門組成，可選配防爆系統，當爐內壓力高于安全值時會自動放氣。充氣管道上裝有針閥，可選配流量計，控制充氣量，用于燒結工藝所需充氬氣，氮氣的氣氛要求。真空熱壓燒結爐實驗室新材料高溫熱成型實驗爐。
更新時間:2025-12-16
1、采用fx系統真空泵，可將腔體內壓力抽至＜100pa2、zdr-1電阻真空計，測量范圍0.1pa~1＊105pa。
更新時間:2025-12-16
真空高溫爐磁場退火爐實驗室加熱設備是由升溫高溫爐，高溫爐加熱電源，labview控制軟件，電磁鐵，＊精度雙性恒溫電源，分子泵組，水冷機組共同組成的一套反饋調節的加熱系統。
更新時間:2025-12-16
真空退火高溫爐分子泵組水冷機組加熱系統 北京錦正茂科技有限公司生產的高溫真空磁場加熱爐系統，是有升溫高溫爐，高溫爐加熱電源，labview控制軟件，電磁鐵，＊精度雙性恒溫電源，分子泵組，水冷機組共同組成的一套反饋調節的加熱系統。
更新時間:2025-12-16
真空熱壓燒結爐160w220v實驗電爐額定500 ℃具有斷電保護功能，即斷電后再給電啟動爐子時、程序不是從起始溫度開始升、而是從斷電時爐溫開始升。
更新時間:2025-12-16
實驗加熱設備真空燒結爐304不銹鋼水冷結構真空系統：由機械泵、充氣閥、放氣閥、真空閥，真空壓力表、波紋管、真空管路和支架等組成。
更新時間:2025-12-16
高溫真空磁場退火爐水冷反饋調節的加熱系統該高溫磁場加熱爐系統是由分子泵組中的機械泵（干泵）先對真空腔體（樣品腔）進行粗抽，達到可以開啟分子泵的限真空時，在開啟分子泵進行高真空的抽取，達到客戶所需的真空度。
更新時間:2025-12-16
非標定制燒結爐實驗爐真空熱壓型304不銹鋼主要結構介紹：真空熱壓爐是由爐體、爐蓋、加熱與保溫及測溫系統、真空系統、充氣系統、水冷系統、控制系統、加壓系統組成。
更新時間:2025-12-16
定制真空磁場高溫退火實驗電爐調節加熱系統退火過程：在強磁場（或無磁）環境下對樣品進行加熱，加熱到一定溫度（用戶需要自己設定）并保持在該溫度，再持續加一個磁場（可隨時變化），達到用戶的目的后，關閉磁場，關閉加熱環境，冷卻到室溫。
更新時間:2025-12-16
錦正茂高溫磁場退火爐 304無磁不銹鋼真空室在室溫到900度，升溫速率優于100k/min，高溫加熱溫度1000℃；控溫精度：±1℃。
更新時間:2025-12-16
北京錦正茂科技有限公司生產的高溫真空磁場加熱爐系統，是有升溫高溫爐，高溫爐加熱電源，labview控制軟件，電磁鐵，＊精度雙性恒溫電源，分子泵組，水冷機組共同組成的一套反饋調節的加熱系統。
更新時間:2025-12-16
高溫磁場退火爐：該高溫磁場加熱爐系統是由分子泵組中的機械泵（干泵）先對真空腔體（樣品腔）進行粗抽，達到可以開啟分子泵的限真空時，在開啟分子泵進行＊真空的抽取，達到客戶所需的真空度。打開軟件，通過在軟件中輸入需要的磁場值和溫度值，通過閉循環反饋調節，使設備內樣品的溫度自動控制并穩定在某一個溫度值，軟件可以按照用戶給定的實驗條件完成實驗。
更新時間:2025-12-16
雙層304不銹鋼水冷結構真空熱壓燒結爐材料高溫熱成型-加熱保溫及測溫系統:加熱系統采用國產電阻絲，保＊了溫度均勻性。保溫材料采用國產爐膛材料，不掉粉、材料保溫性能好、反射率高、溫場均衡，抗熱漲冷縮能力強。采用可控硅控溫，配置有pid功能儀表，數顯表，具有超溫聲光報警功能，也可選用plc觸摸屏自動控制，并保留歷史數據，便于分析燒結過程。
更新時間:2025-12-16
磁場退火高溫爐實驗室反饋調節的加熱系統 錦正茂磁場退火高溫爐是有升溫高溫爐，高溫爐加熱電源，labview控制軟件，電磁鐵，＊精度雙性恒溫電源，分子泵組，水冷機組共同組成的一套反饋調節的加熱系統。
更新時間:2025-12-16
錦正茂高溫磁場退火爐是由升溫高溫爐，高溫爐加熱電源，labview控制軟件，電磁鐵，＊精度雙性恒溫電源，分子泵組，水冷機組共同組成的一套反饋調節的加熱系統。
更新時間:2025-12-16
材料實驗室高真空熱處理爐高真空爐退火爐實驗電爐錦正茂高溫磁場退火爐是由升溫高溫爐，高溫爐加熱電源，labview控制軟件，電磁鐵，＊精度雙性恒溫電源，分子泵組，水冷機組共同組成的一套反饋調節的加熱系統。
更新時間:2025-12-16
真空熱壓燒結爐材料熱壓成型、高溫燒結實驗爐采用可控硅控溫，配置有pid功能儀表，數顯表，具有超溫聲光報警功能，也可選用plc觸摸屏自動控制，并保留歷史數據，便于分析燒結過程。
更新時間:2025-12-16
錦正茂高溫磁場退火爐是由升溫高溫爐，高溫爐加熱電源，labview控制軟件，電磁鐵，＊精度雙性恒溫電源，分子泵組，水冷機組共同組成的一套反饋調節的加熱系統。
更新時間:2025-12-16
溫度控制：通過在軟件上人機交互界面直接設置所需要的溫度值，計算機軟件處理后指令到達高溫爐加熱控制器。控制器通過溫度傳感器（熱電偶）讀出樣品區的實際溫度值，并通過其內部設置的模糊控制pid調節輸出電流的大小，總而使溫度值穩定在某一精度范圍內，從而實現用戶所需要的不同溫度。
更新時間:2025-12-16
加熱保溫及測溫系統:加熱系統采用國產電阻絲，保＊了溫度均勻性。保溫材料采用國產爐膛材料，不掉粉、材料保溫性能好、反射率高、溫場均衡，抗熱漲冷縮能力強。
更新時間:2025-12-16
pi固化爐用于光刻膠bcb，聚酰亞胺pi/cpi固化，lcp纖維熱處理，晶圓干燥烘烤等工藝，主要用于集成電路、化合物半導體、mems微機電、tft/lcd等半導體相關行業。
更新時間:2025-12-15
金屬材料加熱到適當的溫度，保持一定的時間，然后緩慢冷卻的熱處理工藝。常見的退火工藝有：再結晶退火，去應力退火，球化退火，十分退火等。退火的目的：主要是降低金屬材料的硬度，提高塑性，以利切削加工或壓力加工，減少殘余應力，提高組織和成分的均勻化，或為后道熱處理作好組織準備等。
更新時間:2025-12-15
鋼管在加熱爐為輥底式的退火爐內，在電加熱和混合氣作為保護氣體中，具有1～4t/h（標準管φ60×4.0×1100mm，線速度v：二檔300--600--1200mm/分鐘）的低碳鋼、碳素結構鋼、低合金結構鋼進行光亮化退火，微氧化退火的能力。該生產線采用自動輸送方式，上、下料方便，生產線結構緊湊，爐體良好密封，運行可靠性高，操作安全，處理產品滿足和達到質量要求。
更新時間:2025-12-15
在一定溫度范圍內，隨著溫度的升高，雜質與氯化的反應速率加快，提純效果增強。然而，過高的溫度可能導致石英砂中的晶體結構發生變化，影響其物理化學性質。因此，適宜的溫度范圍需要根據實際進行調整。
更新時間:2025-12-15
中溫真空退火爐、爐體分上、中、下三區控溫，溫度均勻。自控柜采用智能化精密溫度控制儀實測爐膽工藝溫度，爐口用耐熱橡膠圈密封，并有水箱循環裝置，爐膽壁與水循環之間有空氣隔套，減少熱量損失。
更新時間:2025-12-15
加熱爐功率：60--300kw，可控硅控制，總控制一區或三區控溫（scr），高溫度：1100℃，爐體加熱元件采用高溫材料扁帶（0cr27ai7mo2），尺寸可根據用戶需求定制，可裝置單根或多根石英管。爐為高低式可調；這樣可讓料自動流出： 金屬材料加熱
更新時間:2025-12-15
罩式電爐每套退火爐有2個爐臺、2個內罩，一個加熱罩。一個冷卻罩，一只爐臺在加熱升溫和保溫時，另一只爐臺處于冷卻，卸料過程，同 一只加熱罩交替加熱2只爐臺可以節省能耗，并實現連續生產。rz型-鐘罩式退火爐 金屬材料加熱到適當的溫度，保持一定的時間，然后
更新時間:2025-12-15
加熱爐功率：60--300kw，可控硅控制，總控制一區或三區控溫（scr），高溫度：1100℃，爐體加熱元件采用高溫材料扁帶（0cr27ai7mo2），尺寸可根據用戶需求定制，可裝置單根或多根石英管。爐為高低式可調；這樣可讓料自動流出：
更新時間:2025-12-15
用途概述：fl系列封閉電爐適用于工業、農業、工礦企業、醫療衛生、科研單位、實驗室等加熱試品用。產品特點：1、本產品外殼采用優質冷軋板表面靜電噴塑，具有抗腐 性能強，堅固耐用。2、采用可控硅無級調功，適應用戶的不同加熱溫度的需要。3、封閉型電爐采用封閉式加熱盤，具有加熱無明火的特點。
更新時間:2025-12-15
dl系列萬用電爐適用于工業、農業、工礦企業、醫療衛生、科研單位、實驗室等加熱試品用。產品特點：1、本產品外殼采用優質冷軋板表面靜電噴塑，具有抗腐性能強，堅固耐用。2、采用可控硅無級調功，適應用戶的不同加熱溫度的需要。3、封閉型電爐采用封閉式加熱盤，具有加熱無明火的特點。
更新時間:2025-12-15
適用于電子陶瓷與高溫結構陶瓷的燒結、玻璃的精密退火與微晶化、晶體的精密退火、陶瓷釉料制備、粉末冶金、納米材料的燒結、金屬零件淬火及一切需快速升溫工藝要求的熱處理，應用于電子元器件、新型材料及粉體材料的真空氣氛處理，材料在惰性氣氛環境下進行燒結。
更新時間:2025-12-14
利用高分子材料容易吸收遠紅外線的特點，大副縮短高分子材料 的熱處理時間，同時又具有強制 送風循環高溫試驗箱的功能，是 種應用領域其廣泛的高精度 熱處理裝置。
更新時間:2025-12-14
主要技術參數：1、窯內容積：（1500～2500）×150×190(mm)2、試樣最大尺寸：100×150×25(mm)3、溫度：1350℃、4點測溫、電腦控溫4、輥棒中心距：30mm5、燒成周期：15～200min可調6、電爐功率：380v、(15～20)kv
更新時間:2025-12-13
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