干燥箱/烘箱產(chǎn)品及廠家
碳化硅hmds烘箱，sic襯底hmds烤箱成功地將硅片等襯底表面由親水變?yōu)槭杷涫杷珊芎玫嘏c光刻膠結(jié)合，起著偶聯(lián)劑的作用。
更新時(shí)間:2025-12-16
hmds預(yù)處理系統(tǒng)在超薄鈮酸鋰材料的應(yīng)用它成功地將產(chǎn)品表面由親水變?yōu)槭杷涫杷珊芎玫嘏c光刻膠結(jié)合，起著偶聯(lián)劑的作用。
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黃光區(qū)電熱鼓風(fēng)烤箱，非標(biāo)鼓風(fēng)干燥箱用于半導(dǎo)體制造中硅片、砷化鎵、鈮酸鋰、玻璃等材料預(yù)處理烘烤；也適用于電子液晶顯示、lcd、cmos、is、醫(yī)藥、實(shí)驗(yàn)室等生產(chǎn)及科研部門；也可用于非揮發(fā)性及非易燃易爆物品的干燥、熱處理、老化等其他高溫試驗(yàn)。
更新時(shí)間:2025-12-16
充氮真空烘箱，快速降溫真空烤箱用于鍵合材料的真空預(yù)處理 、bcb固化、ito膜退火，pi膠固化等工藝。廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、電子產(chǎn)品、醫(yī)療衛(wèi)生等行業(yè)，適用于工廠、高等院校、科研等場(chǎng)所。
更新時(shí)間:2025-12-16
為了獲得良好的聚酰亞胺性能，非常好的溫度均勻性，低氧含量和低顆粒數(shù)是非常重要的。無(wú)塵烤箱,非光敏型聚酰亞胺樹脂（pi）烤箱腔內(nèi)的氣體保持相當(dāng)干凈（100級(jí)），良好的溫度均勻性。通過(guò)氮?dú)獯祾呖蓪⒀鯕夂拷档椭?0ppm以下。這保證了非光敏聚酰亞胺的優(yōu)異工藝結(jié)果。
更新時(shí)間:2025-12-16
無(wú)塵室烤箱，半導(dǎo)體專用無(wú)塵烤箱用于半導(dǎo)體制造中硅片、砷化鎵、鈮酸鋰、玻璃等材料涂膠前的預(yù)處理烘烤、涂膠后堅(jiān)膜烘烤和顯影后的高溫烘烤；也適用于電子液晶顯示、lcd、cmos、is、醫(yī)藥、實(shí)驗(yàn)室等生產(chǎn)及科研部門；hmds無(wú)塵烤箱可以在硅片、基片表面均勻涂布一層hmds，降低了hmds處理后的硅片接觸角，降低了光刻膠的用量，提高光刻膠與硅片的黏附性。
更新時(shí)間:2025-12-16
濕敏元件用烘箱滿足各種濕敏元件烘烤條件的用烘烤設(shè)備，可實(shí)現(xiàn)：40℃～90℃ 低溫烘烤125℃~150℃ 烘烤及高溫試驗(yàn)
更新時(shí)間:2025-12-16
熱風(fēng)循環(huán)烘箱，精密烤箱是一種高功能、高信賴度烤箱，結(jié)構(gòu)、材質(zhì)強(qiáng)度、保溫、循環(huán)風(fēng)道等均設(shè)計(jì)精良，且外形美觀、操作方便。空氣循環(huán)系統(tǒng)為水平式循環(huán)送風(fēng)，風(fēng)源由循環(huán)馬達(dá)運(yùn)轉(zhuǎn)帶動(dòng)風(fēng)輪經(jīng)電熱器，將熱風(fēng)由風(fēng)道送至烤箱內(nèi)部，且將使用后空氣吸入風(fēng)道成為風(fēng)源再度循環(huán)加熱，如此可得到較佳的溫度均勻性
更新時(shí)間:2025-12-16
抗粘劑鍍膜機(jī)，抗粘劑蒸鍍機(jī)，抗粘劑氣相涂布機(jī)在納米壓印工藝中模具在進(jìn)行壓印要進(jìn)行預(yù)處理，當(dāng)模具壓印光刻膠后脫模時(shí)，有2種可能，一種是模具可完全脫離，壓印膠圖形完整保留;一種是模具和壓印膠粘在一起脫模過(guò)程中膠也被帶起來(lái)，使得壓印圖形無(wú)法保留，而這些粘在模具上的膠也會(huì)污染模具。因此模具在使用，要涂一層抗粘劑，使得模具和壓印膠之間的粘附性變差，使脫模過(guò)程變得容易。
更新時(shí)間:2025-12-16
晶圓潔凈烘箱，光刻硬烘烤箱 潔凈度100級(jí)的潔凈熱處理hepa過(guò)濾器與前出風(fēng)型水平層流循環(huán)方式實(shí)現(xiàn)并保證箱內(nèi)的溫度分布的均勻性與100級(jí)潔凈度。最小限度控制風(fēng)速距離。
更新時(shí)間:2025-12-16
芯片hmds預(yù)處理，可編程hmds通過(guò)對(duì)烘箱預(yù)處理過(guò)程的工作溫度、處理時(shí)間、處理時(shí)保持時(shí)間等參數(shù)的控制可以在硅片、基片表面均勻涂布一層hmds，降低了hmds處理后的硅片接觸角，降低了光刻膠的用量，提高光刻膠與硅片的黏附性。適用于硅片、砷化鎵、陶瓷、不銹鋼、鈮酸鋰、玻璃、藍(lán)寶石、晶圓等材料預(yù)處理及相關(guān)行業(yè)
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增粘劑烤箱，hmds烘箱將hmds涂到led、半導(dǎo)體制造中硅片、砷化鎵、鈮酸鋰、玻璃、藍(lán)寶石、晶圓等材料表面后，經(jīng)烘箱加溫可反應(yīng)生成以硅氧烷為主體的化合物。它成功地將硅片表面由親水變?yōu)槭杷涫杷珊芎玫嘏c光刻膠結(jié)合，起著偶聯(lián)劑的作用。均勻涂布一層hmds，降低了hmds處理后的硅片接觸角，降低了光刻膠的用量，提高光刻膠與硅片的黏附性。
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芯片高溫高濕實(shí)驗(yàn)機(jī)，晶圓恒溫恒濕老化箱適用于電工、電子、儀器儀表及其它產(chǎn)品、零部件及材料在高低溫交變濕熱環(huán)境下貯存、運(yùn)輸、使用時(shí)的適應(yīng)性試驗(yàn)；
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無(wú)塵class100烘箱，mes接口無(wú)塵烘箱用于ic生產(chǎn)過(guò)程中極為重要的光刻工藝中預(yù)烘烤（軟烘），脫水烘烤，涂膠后的堅(jiān)膜烘烤（硬烘）；也適用于電子液晶顯示、柔性面板、lcd、cmos、oled、醫(yī)藥、實(shí)驗(yàn)室等生產(chǎn)及科研部門。
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隧道烘箱，流水線烘箱作用是將需要烘烤的產(chǎn)品在流水線上連續(xù)性進(jìn)行烘烤，以達(dá)到提高生產(chǎn)效率。
更新時(shí)間:2025-12-16
無(wú)塵烤箱配備hepa過(guò)濾器，以保持爐腔無(wú)顆粒。 hepa過(guò)濾器（高效微粒捕獲）現(xiàn)在是電子和平板顯示器潔凈室組裝的主要過(guò)濾系統(tǒng)，或任何需要大程度減少或去除亞微米微粒的應(yīng)用。 hepa過(guò)濾器具有隨機(jī)定位的微玻璃纖維的深床，其中與平均纖維直徑和自由路徑橫截面的有效孔相比，總床深度（過(guò)濾器的厚度）非常大。
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12寸hmds真空烤箱，芯片hmds烘箱通過(guò)對(duì)烘箱預(yù)處理過(guò)程的工作溫度、處理時(shí)間、處理時(shí)保持時(shí)間等參數(shù)的控制可以在硅片、基片表面均勻涂布一層hmds，降低了hmds處理后的硅片接觸角，降低了光刻膠的用量，提高光刻膠與硅片的黏附性。
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馬弗爐，高溫電阻爐是分析實(shí)驗(yàn)室樣品干法處理，冶金實(shí)驗(yàn)室做熔融實(shí)驗(yàn)，熱處理部門做退火、淬火等實(shí)驗(yàn)，以及其他需要高溫的場(chǎng)合需要的加熱輔助設(shè)備，應(yīng)用廣泛。一體型馬弗爐是新研制生產(chǎn)的產(chǎn)品，該產(chǎn)品將爐體與控制部分做了整合，大的降低了所占空間面積。
更新時(shí)間:2025-12-16
玻璃棉卷氈憎水處理系統(tǒng) 憎水劑噴涂機(jī)是將憎水劑滲透進(jìn)入纖維間的微孔隙，固化后在孔隙表面形成納米級(jí)疏水膜，減少水汽通過(guò)毛細(xì)作用滲透的通道，同時(shí)保持纖維間孔隙的保溫性能（憎水率≥98％）
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高溫?zé)o氧固化爐，百級(jí)無(wú)氧化烤箱用于pi、bcb膠高溫固化烘烤。整個(gè)箱體結(jié)構(gòu)分為：膛體組件、箱架組件和熱風(fēng)組件三個(gè)部分，膛體腔，內(nèi)表面全鏡面設(shè)計(jì)，風(fēng)道由左、右、后導(dǎo)風(fēng)板與箱體內(nèi)壁組合而成，膛體頂部有排風(fēng)管道。
更新時(shí)間:2025-12-16
101a系列數(shù)顯鼓風(fēng)干燥箱箱內(nèi)加熱恒溫系統(tǒng)由數(shù)字式溫度控制儀、電加熱器和低噪音電機(jī)等組成；控溫準(zhǔn)確、直觀易讀；工作室溫度室溫－300℃之間任意恒溫 ；箱門上雙層鋼化玻璃觀察窗，便于觀察箱內(nèi)加熱物品。
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無(wú)氧烘箱，20ppm無(wú)氧烘箱應(yīng)用于精密電子元件、pi、bcb膠高溫固化烘烤、光刻膠固化、電子陶瓷材料無(wú)塵烘干的特殊工藝要求，形成高溫、低氧（無(wú)氧）、潔凈環(huán)境，特別適合半導(dǎo)體制造、cob封裝、ic封裝、石英玻璃、醫(yī)療衛(wèi)生、柔性線路板印刷、精密模具煺火等行業(yè)的無(wú)氧化干燥烘烤工藝要求.
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hmds涂膠烤箱，mes接口hmds涂布機(jī)的主要作用是對(duì)晶圓做表面處理，以增加光阻在晶圓表面的附著力。當(dāng)晶圓送到黃光區(qū)時(shí)，表面可能有含水層，高溫烘烤后去除水氣，同時(shí)經(jīng)過(guò)hmds制程改變晶圓表面從極性到非極性，將晶圓表面的表面能被調(diào)整到與光阻表面相當(dāng)?shù)某潭龋瑥亩构庾杩梢院芎玫母街诰A表面。
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500℃高溫烤箱、高溫?zé)Y(jié)箱廣泛應(yīng)用于電子、電機(jī)、通訊、電鍍、塑料、五金化工、食品、印刷、制藥、pc板、粉體、含浸、噴涂、玻璃、陶瓷、木器建材.可供生產(chǎn)廠家和科研單位做三氟乙烯、四氟乙烯、pe等壓縮成型制品的燒結(jié)。
更新時(shí)間:2025-12-16
精密熱風(fēng)烘箱的操作方法，可程式工業(yè)烘箱適用于電子業(yè) 、試驗(yàn)檢測(cè)、科研、生產(chǎn)、老化測(cè)試、pcb、pe、電解電容、橡塑料鍵盤、計(jì)算機(jī)等。電容生產(chǎn)、硅橡膠、半導(dǎo)體、lcm、lcd、led、mlcc、tft、精密陶瓷、石英振蕩器等。
更新時(shí)間:2025-12-16
表面改性疏水處理設(shè)備將疏水材料硅烷偶聯(lián)劑，通過(guò)霧化設(shè)備噴涂到陶瓷纖維表面，經(jīng)高溫烘烤數(shù)小時(shí)增強(qiáng)附著力。
更新時(shí)間:2025-12-16
自然通風(fēng)老化箱，自然換氣式老化試驗(yàn)機(jī)用于電線、電纜、塑料、橡膠等行業(yè)作熱老化試驗(yàn)、熱延伸試驗(yàn)、球壓試驗(yàn)等，也可用于工礦企業(yè)、科研單位、大專院校等實(shí)驗(yàn)室作烘焙、高溫試驗(yàn),符合gb/t 2951電纜和光纜絕緣和護(hù)套材料通用試驗(yàn)方法。
更新時(shí)間:2025-12-16
精密無(wú)氧化烘箱，無(wú)氧烤箱在工作時(shí)，工作室內(nèi)充滿了惰性氣體co2,n2,防止材料在烘烤時(shí)被氧化。無(wú)氧化烘箱在工業(yè)中的用途：ic包裝，lcd,晶體管，傳感器，二管，石英晶體振蕩器，混合集成電路板……
更新時(shí)間:2025-12-16
hmds 預(yù)處理系統(tǒng)通過(guò)對(duì)烘箱預(yù)處理過(guò)程的工作溫度、處理時(shí)間、處理時(shí)保持時(shí)間等參數(shù)的控制可以在硅片、基片表面均勻涂布一層hmds，降低了hmds 處理后的硅片接觸角，降低了光刻膠的用量，提高光刻膠與硅片的黏附性。
更新時(shí)間:2025-12-16
無(wú)氧烘箱，20ppm無(wú)氧烘箱應(yīng)用于精密電子元件、pi、bcb膠高溫固化烘烤、光刻膠固化、電子陶瓷材料無(wú)塵烘干的特殊工藝要求，形成高溫、低氧（無(wú)氧）、潔凈環(huán)境，特別適合半導(dǎo)體制造、cob封裝、ic封裝、石英玻璃、醫(yī)療衛(wèi)生、柔性線路板印刷、精密模具煺火等行業(yè)的無(wú)氧化干燥烘烤工藝要求.
更新時(shí)間:2025-12-16
硅片充氮烘箱，半導(dǎo)體充氮烤箱是一種提供高溫凈化環(huán)境的特殊潔凈烘干設(shè)備,適用于電子液晶顯示、lcd、cmos、ic、醫(yī)藥、實(shí)驗(yàn)室等生產(chǎn)及科研部門。
更新時(shí)間:2025-12-16
無(wú)氧烘箱，光刻膠固化烘箱用于精密電子元件、pi膠固化烘烤、bcb固化，光刻膠固化、lcp液晶聚合物熱處理、電子陶瓷材料烘干的特殊工藝要求，
更新時(shí)間:2025-12-16
電熱鼓風(fēng)烤箱，小型干燥烘箱用于半導(dǎo)體制造中硅片、砷化鎵、鈮酸鋰、玻璃等材料預(yù)處理烘烤；也適用于電子液晶顯示、lcd、cmos、is、醫(yī)藥、實(shí)驗(yàn)室等生產(chǎn)及科研部門；也可用于非揮發(fā)性及非易燃易爆物品的干燥、熱處理、老化等其他高溫試驗(yàn)。
更新時(shí)間:2025-12-16
class100高溫潔凈烘箱，程控式無(wú)塵烤箱采用液晶觸摸屏溫度控制器，內(nèi)置曲線查詢、pid自整定、高溫上限報(bào) 警運(yùn)行方式：定值、程式，中、英文操作。
更新時(shí)間:2025-12-16
hmds涂膠機(jī)，智能型hmds涂膠機(jī)，hmds自動(dòng)涂膠機(jī)將hmds涂到半導(dǎo)體制造中硅片、砷化鎵、鈮酸鋰、玻璃、藍(lán)寶石、晶圓等材料表面后，經(jīng)烘箱加溫可反應(yīng)生成以硅氧烷為主體的化合物。它成功地將硅片表面由親水變?yōu)槭杷涫杷珊芎玫嘏c光刻膠結(jié)合，起著偶聯(lián)劑的作用。
更新時(shí)間:2025-12-16
無(wú)塵烘箱，無(wú)塵固化烤箱用于高精度硅上薄膜電阻制造過(guò)程中堅(jiān)膜工藝。也用于半導(dǎo)體制造中硅片、砷化鎵、鈮酸鋰、玻璃等材料涂膠前的預(yù)處理烘烤、涂膠后堅(jiān)膜烘烤和顯影后的高溫烘烤。
更新時(shí)間:2025-12-16
實(shí)驗(yàn)室hmds專用烘箱 小型hmds處理烤箱解決光刻膠附著力不足問(wèn)題,同時(shí)增強(qiáng)光刻圖形的完整性.
更新時(shí)間:2025-12-16
芯片高溫?zé)Y(jié)箱，500℃高溫烤箱廣泛應(yīng)用于電子、電機(jī)、通訊、電鍍、塑料、五金化工、食品、印刷、制藥、pc板、粉體、含浸、噴涂、玻璃、陶瓷、木器建材.可供生產(chǎn)廠家和科研單位做三氟乙烯、四氟乙烯、pe等壓縮成型制品的燒結(jié)
更新時(shí)間:2025-12-16
六甲基二硅氮烷(hmds)表面處理設(shè)備的工藝是勻膠襯底“增附”處理。容積大小：350*350*350/450*450*450
更新時(shí)間:2025-12-16
線性恒溫恒濕試驗(yàn)機(jī)，曲線溫濕度試驗(yàn)箱試驗(yàn)各種材料耐熱、耐寒、耐干、耐濕性能。適合電子、電器、通訊、儀表、車輛、塑膠制品、金屬、食品、化學(xué)、建材、醫(yī)療、航天等制品檢測(cè)質(zhì)量之用。
更新時(shí)間:2025-12-16
乙烯基三甲氧基硅烷涂膠機(jī) vtms蒸鍍機(jī) 硅烷偶聯(lián)劑氣相沉積系統(tǒng)在材料進(jìn)行表面改性，形成防水保護(hù)層，主要用于半導(dǎo)體、光電、生物新材料等表面處理工藝、機(jī)械乳化劑、橡膠粘結(jié)劑，化工油墨分散劑等用途。
更新時(shí)間:2025-12-16
抽屜烘箱，抽拉層式烘箱用于半導(dǎo)體、電子行業(yè)、軌道交通、汽車零部件、航空航天，工礦企業(yè)、大院校、生物制藥、科研、醫(yī)療單位及各類實(shí)驗(yàn)室等作非易燃易爆物品及非揮發(fā)性物品的干燥、烘培、熔臘、滅菌之用。
更新時(shí)間:2025-12-16
無(wú)氧化烤箱，氮?dú)鉄o(wú)氧化烤箱內(nèi)翅片式水冷散熱器，冷卻水通過(guò)散熱器快速帶走更多的熱量，使得箱內(nèi)溫度快速下降，縮短降溫時(shí)間，提高生產(chǎn)效率。
更新時(shí)間:2025-12-16
pi亞胺化厭氧爐，pi真空厭氧烤箱用于光刻膠bcb，聚酰亞胺pi/cpi固化，lcp纖維熱處理，晶圓干燥烘烤等工藝，主要用于集成電路、化合物半導(dǎo)體、mems微機(jī)電、tft/lcd等半導(dǎo)體相關(guān)行業(yè)。
更新時(shí)間:2025-12-16
電線電纜專用老化箱，gb/t 2951老化試驗(yàn)機(jī)主要適用于電線、電纜、塑料、橡膠等行業(yè)作自然通風(fēng)熱老化試驗(yàn)，也可用于工礦企業(yè)、科研單位、大專院校等實(shí)驗(yàn)室作烘焙、高溫試驗(yàn),符合gb/t 2951.12電纜和光纜絕緣和護(hù)套材料通用試驗(yàn)方法。
更新時(shí)間:2025-12-16
真空無(wú)氧烤箱，無(wú)氧化真空烘箱兼容性：2寸-12寸/碎片兼容。低氧濃度：可達(dá)20ppm氧氣下實(shí)現(xiàn)真空固化。能耗低，真空狀態(tài)固化，節(jié)約了80%n₂量。無(wú)污染，腔體內(nèi)部所有材料均為316l醫(yī)用不銹鋼，無(wú)任何顆粒產(chǎn)生。
更新時(shí)間:2025-12-16
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