等離子清洗器產品及廠家
等離子清洗設備廣泛應用于材料學、微電子、半導體、新能源、線路板、led、微流控、光電太陽能、生物醫學等領域，主要用于材料表面進行清洗、改性、刻蝕等目的。
更新時間:2025-12-16
等離子清洗機（plasma cleaner）也叫等離子清潔機、等離子表面處理儀，是一種低能耗、清潔、環保、處理均勻的的高科技技術，它利用等離子體來達到常規清洗方法無法達到的效果。
更新時間:2025-12-16
等離子清洗能實現清洗、涂覆、接枝、刻蝕四大功能，改變材料表面性能！該設備具有較大的腔體尺寸和有效樣品處理面積，使用成本低,性價比高，處理快速高效，特別適合于大學，科研院所和光電企業實驗室小批量中試生產。
更新時間:2025-12-16
等離子清洗機（plasma cleaning）能實現清洗、涂覆、接枝、刻蝕四大功能，改變材料表面性能！該設備具有較大的腔體尺寸和有效樣品處理面積，使用成本低,性價比高，處理快速高效，特別適合于大學，科研院所和光電企業實驗室小批量中試生產。
更新時間:2025-12-16
等離子清洗機（plasma cleaning）能實現清洗、涂覆、接枝、刻蝕四大功能，改變材料表面性能！該設備具有較大的腔體尺寸和有效樣品處理面積，使用成本低,性價比高，處理快速高效，特別適合于大學，科研院所和光電企業實驗室小批量中試生產。
更新時間:2025-12-16
專為處理粉體如粉末、顆粒狀材料樣品而設計的粉體專用等離子清洗機，可以高效率地處理微細的甚至分子級別的超細粉體材料，改變傳統真空等離子清洗機無法處理粉體樣品的問題。同時可實現常規等離子清洗。
更新時間:2025-12-16
vgb系列手套箱專用等離子清洗設備，優化的腔體結構及合理的結構設計更適合手套箱內使用。安裝簡單方便，性能穩定，實用性強，容易維護。
更新時間:2025-12-16
cpc系列等離子清洗機是為中試客戶和工業級客戶而設計的等離子體表面處理設備。配置豐富，且真空腔體里可分層，適合大多數生產場景清洗，活化、刻蝕等應用。設備可在嚴苛環境下穩定運行，產品性能穩定，樣品處理重復性、一致性好。
更新時間:2025-12-16
cif透射電鏡（tem）樣品桿清洗機采用遠程離子清洗源設計，清洗快速高效，低轟擊損傷，同時可實現常規等離子清洗。主要用于tem透射電鏡樣品桿的等離子體清洗和真空檢漏。
更新時間:2025-12-16
tem透射樣品桿長期暴露于大氣中，空氣中水汽及污染物會附著于樣品桿表面，會導致電鏡抽真空時間延長，污染電鏡真空腔室、探測器等，影響電鏡的使用壽命
更新時間:2025-12-16
等離子可以應用于材料接合或精確改變材料表面屬性。通過這項前瞻性技術可以改變幾乎所有的材料表面。
更新時間:2025-12-16
等離子可以應用于材料接合或精確改變材料表面屬性。通過這項前瞻性技術可以改變幾乎所有的材料表面。等離子體技術可應用于不同材料，例如：玻璃、金屬、塑料制品、紡織品和陶瓷制品。
更新時間:2025-12-16
等離子工藝除清洗與活化外，還具有蝕刻與涂層的功能。可以應用于多種領域。
更新時間:2025-12-16
tetra 30等離子系統能夠以不同的形式進行整合，可以滿足生產企業需求，也能夠按照客戶要求進行定制。
更新時間:2025-12-16
對于常壓等離子技術，等離子的生成是由于氣體在大氣壓力下通過高電壓而被激發。等離子由高壓氣體驅動從噴嘴中一同噴出。其等離子效應可以分為以下兩種：?表面激活及精密清洗 通過等離子束中所攜帶的反應粒子實現?此外，松散附著于材料表面的微塵將由高壓加速的激活氣流帶走
更新時間:2025-12-16
對于常壓等離子技術，等離子的生成是由于氣體在大氣壓力下通過高電壓而被激發。等離子由高壓氣體驅動從噴嘴中一同噴出。其等離子效應可以分為以下兩種：?表面激活及精密清洗 通過等離子束中所攜帶的反應粒子實現?此外，松散附著于材料表面的微塵將由高壓加速的激活氣流帶走
更新時間:2025-12-16
cap-auto系列全自動在線式大氣等離子清洗機采用單軸模組配合旋噴等離子組件，噴洗高度可調，運動軌跡可根據要求設定，上下料方式采用鏈條或皮帶傳動連接前后工序，實現對產線產品的等離子清洗處理。
更新時間:2025-12-16
cpc-auto在線片式真空等離子清洗機具有成本較低、容易使用，維護乃保養費用低，環保等優點。適用于芯片粘結工藝前、引線鍵合和覆晶封裝工藝前的表面處理，與傳統獨立式的等離子清洗機相比，在線片式真空等離子清洗機具有自動化程度高、清洗效率高、設備潔凈度高、適用范圍廣等優點，適用于大規模全自動化生產。
更新時間:2025-12-16
等離子去膠機，采用電感耦合各向同性（各個方向）等離子激發方式，適用于所有的基材及復雜的幾何構形都可以進行等離子體去膠。特別適合于大學，科研院所和微電子、半導體企業實驗室，對電路板、外延片、芯片、環氧基樹脂、mems制造過程中犧牲層，干刻或濕刻處理前或后，對基材進行聚合物剝離、金屬剝離、掩膜材料等光刻膠去除，以及晶圓表面預處理等。
更新時間:2025-12-16
plasma-preen 微波級等離子清洗機是 一臺小型臺式設備，可以用來清洗和刻蝕。 plasma-preen 等離子清洗機系統融合了諸多工藝特點，并在眾多的應用領域中得到了肯定。
更新時間:2025-12-16
plasma-preen 微波級等離子清洗機是 一臺小型臺式設備，可以用來清洗和刻蝕。 plasma-preen 等離子清洗機系統融合了諸多工藝特點，并在眾多的應用領域中得到了肯定。
更新時間:2025-12-16
美國pie公司出品的semi-kleen 等離子清洗儀, 可清洗各種類型電子或者離子顯微鏡，深紫外光刻機，電子光刻系統等真空儀器。一個儀器同時清洗真空腔體和樣品。
更新時間:2025-12-16
tergeo em型sem及tem樣品/樣品桿清潔專用等離子清潔儀美國pie scientific專注研發先進的實驗室用等離子儀器，用于sem/tem樣品清潔、光刻膠蝕刻、等離子體增強沉積、表面處理與活化。我們的宗旨是：將半導體和核工程研究中開發的等離子技術集成到經濟實用的實驗室用等離子儀器。專為去除sem & tem樣品的碳氫污染而設計。特有的雙清洗模式（immersion和downstream）能夠處理各種不同的樣品，從嚴重污染的電子光學孔徑光闌到各種脆弱易損樣品，如石墨烯、碳納米管、類金剛石碳膜以及多孔碳支持膜銅網上的tem樣品。石英樣品托板上的孔洞可以安裝標準sem樣品托。特別設計的適配器可以清潔不同廠家的tem樣品桿。
更新時間:2025-12-16
tergeo em型sem及tem樣品/樣品桿清潔專用等離子清潔儀美國pie scientific專注研發先進的實驗室用等離子儀器，用于sem/tem樣品清潔、光刻膠蝕刻、等離子體增強沉積、表面處理與活化。我們的宗旨是：將半導體和核工程研究中開發的等離子技術集成到經濟實用的實驗室用等離子儀器。專為去除sem & tem樣品的碳氫污染而設計。特有的雙清洗模式（immersion和downstream）能夠處理各種不同的樣品，從嚴重污染的電子光學孔徑光闌到各種脆弱易損樣品，如石墨烯、碳納米管、類金剛石碳膜以及多孔碳支持膜銅網上的tem樣品。石英樣品托板上的孔洞可以安裝標準sem樣品托。特別設計的適配器可以清潔不同廠家的tem樣品桿
更新時間:2025-12-16
美國pie出品的em-kleen型遠程等離子清潔儀，廣泛用于sem掃描電鏡,fib聚焦離子束雙束電鏡,tem透射電鏡,xps_x射線光電子能譜分析儀,ald原子層沉積系統,cd-sem, ebr, ebi, euvl和其它高真空系統，可同時清潔真空腔室和樣品！
更新時間:2025-12-16
tucano是一種臺式等離子系統，專為表面清潔，改性和活化而設計。系統特別設計用于等離子體表面處理包括光刻膠灰化, 有機物去除, 清洗, 活化, 改性, 沉積和刻蝕, 具有功能多, 易操作性強, 全自動化無需調試, 可靠性高, 低成本等優點, 廣泛應用于半導體制造, 微電子加工, 生命科學制造和前處理等。
更新時間:2025-12-16
plasmadart是一種結構緊湊，輕便小巧且自動控制的大氣常壓等離子處理系統，可輕松集成到現有生產線中。通過高壓放電將等離子體引入通向處理噴嘴的腔室中，注入壓縮空氣流，在放電的作用下，噴嘴噴射由氣體分解成的反應物質，從而形成等離子體射流。該射流的反應特性可進行表面處理。等離子體射流具有較低的電勢，可在電子工業中使用。
更新時間:2025-12-16
apd-2110主要設計用于工業生產線，通過ce認證，可訂購濕法材料認證，用于高純度應用和連續柔性電纜，用于自動化生產線。 它擁有內部校準流量控制器，以及緊湊，高效的變壓器和涂覆器，無需主動冷卻。
更新時間:2025-12-16
plasma blast ?pb-6000是基于等離子的涂層去除系統，可快速安全地去除難以去除的保護涂層和密封劑。使用空氣等離子束，plasmablast系統可快速安全地從各種表面上去除油漆，密封劑，粘合劑和其他保護涂層，從而可以檢測各種商業和政府基礎設施設備上的關鍵焊縫和接頭。
更新時間:2025-12-16
plasmadyne pro 1000s treating system 大氣等離子體處理系統 采用大氣等離子技術處理各種表面，如塑料，橡膠，玻璃，金屬，紙板和復合材料。大氣等離子體清洗去除雜質及表面有機污染物并改變基質分子結構，重新構造表面的化學性質，從而在基材與粘合劑，涂料，層壓材料，涂料和油墨之間形成強大的粘合，提高表面能量。
更新時間:2025-12-16
heron系列全自動化等離子表面處理系統應用于小型生產以及研發實驗室使用。heron 80是一款獨立式等離子系統，專為表面清潔，改性，活化和蝕刻而設計。它可以在不同的材料上運行，如金屬，塑料，陶瓷，紙張等。用戶友好的圖形界面與高效的射頻系統相結合，使heron 80成為小型生產或研發環境的簡單通用解決方案
更新時間:2025-12-16
colibr是一種臺式等離子系統，專為表面清潔，改性和活化而設計。它可以在不同的材料上運行，如金屬，塑料，陶瓷，紙張等。用戶友好的控制界面使colibrì成為小型生產或研發環境的簡單通用解決方案。
更新時間:2025-12-16
? 可去除所有大小的顆粒，從可見到3-5納米的顆粒? 可以去除碳氫化合物污染和有機殘留物? 無磨損、無殘留、無化學廢物 – 環保型
更新時間:2025-12-16
plasmastar®系列等離子處理系統適合處理所有的材料。 plasmastar®系統擁有多種腔室和電極配置，可滿足不同的等離子工藝和基片尺寸
更新時間:2025-12-16
hty-30a型真空泵是設計用于微生物檢測的專用真空泵，它具有外形小巧，操作簡單，易于清潔維護等特點。它既可與微生物限度過濾支架配套hty-30a真空泵 jmr-y30a型真空泵是設計用于微生物檢測的專用真空泵，它具有外形小巧，操作簡單，易于清潔維護等特點。它既可與微生物限度過濾支架配套，采用負壓抽濾方式進行微生物限度檢查，也可單作為抽氣設備使
更新時間:2025-12-15
hk-ltps100a低溫等離子體滅菌系統是新代醫用滅菌設備，采用過氧化氫低溫等離子體滅菌技術。可以對不耐濕熱的器械進行低溫快速滅菌。特別是對醫用電子器械（如骨科電鋸、電鉆、高頻電刀導線、電池等）和非金屬類（如導管、光纖窺鏡、硅橡膠制等）物的滅菌，具有顯著的優勢。在環保、節能、低溫、快速、安全方面優勢明顯
更新時間:2025-12-15
德國 pva tepla等離子清洗系統80 plus hs, giga690,10n optimus100,80 plus，有別于傳統的射頻等離子(物理)清洗方式，微波等離子清洗可以清洗到樣品的每一個部位，實現清洗過程的自由基不會被障礙物所阻擋，并且不會改變表面的粗糙度。
更新時間:2025-12-15
電子半導體圖像法清潔度分析系統是普勒新世紀實驗按照普洛帝分析儀器事業部的規劃，于2001年推向市場的成熟系統儀器；觀察顆粒形貌，還可以得到粒度分布、數量、大小、平均長徑比以及長徑比分布等，為科研、生產域增添了一種新的粒度測試手段；電子半導體圖像法清潔度分析系統為一種圖像法粒度分布測試以及顆粒型貌分析等多功能顆粒分析系統，該系統包括光學顯微鏡、圖像測試。
更新時間:2025-12-13
日本yamato等離子清洗機pdc200/pdc210/pdc510|gas plasma dry cleaners，主要用于csb/bga/cob基板的等離子處理，有機膜和金屬氧化膜的除去，印刷電路基板的干洗，界面活性處理等；適用于科研試驗的等離子清洗機。
更新時間:2025-12-10
spk-500s 寬幅等離子清洗機(plasma cleaner)，氣體通過激勵電源離化成等離子態，等離子體作用于產品表面，清洗產品表面污染物，提高表面活性，增強附著性能。等離子清洗是一種新型的、環保、高效、穩定的表面處理方式。
更新時間:2025-12-09
垃圾轉運需集中打包，火印牌垃圾轉運站下水道墻壁設備頂棚空間消毒除臭殺菌設備，對滲濾液殺菌效果好，聚集堆積垃圾產生臭味，是大量細菌在作怪，只要消滅它就不會產生臭味。
更新時間:2025-12-06
hk-ltps100a低溫等離子體滅菌系統是新代醫用滅菌設備，采用過氧化氫低溫等離子體滅菌技術。可以對不耐濕熱的器械進行低溫快速滅菌。特別是對醫用電子器械（如骨科電鋸、電鉆、高頻電刀導線、電池等）和非金屬類（如導管、光纖窺鏡、硅橡膠制等）物的滅菌，具有顯著的優勢。在環保、節能、低溫、快速、安全方面優勢明顯
更新時間:2025-12-05
可以滅面的物品和材質 宮腔鏡、腹腔鏡、喉鏡、探頭、硬性內窺鏡、軟管內窺鏡、眼科鏡片、纖維光纜、顱壓傳感器、冷療探子、列腺切除器、食管擴張器、電灼器械、除顫電機、激光機頭、金屬類、玻璃類、硅膠類、橡膠類等
更新時間:2025-12-05
hpc系列小型等離子清洗系統是臺式等離子處理設備領域當之無愧的領先者，我們專為實驗室研發提供性價比高的小型等離子清洗設備，已經有30多年的豐富經驗。
更新時間:2025-12-05
hpc系列小型等離子清洗系統是臺式等離子處理設備領域當之無愧的領先者，我們專為實驗室研發提供性價比高的小型等離子清洗設備，已經有30多年的豐富經驗。
更新時間:2025-12-05
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