等離子清洗器產品及廠家
最新技術的兆聲和清洗技術的發展，對mems和半導體等領域的晶圓和掩模版清洗提供了最新的水平，可以幫助用戶獲得最干凈的晶圓片和掩模版。
更新時間:2025-12-17
npc-4000（a）全自動等離子清洗/去膠機概述：nano-master 等離子清洗和灰化系統是專門設計用來滿足晶圓批處理或者單晶片處理的廣泛應用，從晶圓的光刻膠剝離到表面改性都涉及到。該系列的設備采用pc控制，可以配套不同的等離子源，加熱或不加熱基片夾具,具有獨一無二的能力:可以從pe等離子刻蝕切換到rie刻蝕模式,也就是說可以支持各向同性和各向異性的各種應用。
更新時間:2025-12-17
nie-3500 (mc)離子束清洗系統產品概述：該系統為計算機全自動實現工藝控制的緊湊型獨立的立柜式離子束刻蝕系統，具有結構緊湊、功能強大、自動化程度高、模塊化設計易于維護、低成本的優勢。所有核心組件均為國際知名品牌。
更新時間:2025-12-17
npc-3000等離子清洗/去膠機概述：nano-master 等離子灰化和清洗系統是專門設計用來滿足晶圓批處理或者單晶片處理的廣泛應用，從晶圓的光刻膠剝離到表面改性都涉及到。該系列的設備采用pc控制，可以配套不同的等離子源，加熱或不加熱基片夾具,具有獨一無二的能力:可以從pe等離子刻蝕切換到rie刻蝕模式,也就是說可以支持各向同性和各向異性的各種應用
更新時間:2025-12-17
nie-3000 (c) 離子束清洗系統產品概述：該系統為手動放片取片，但通過計算機全自動實現工藝控制的臺式離子束刻蝕系統，系統具有結構緊湊、功能強大、自動化程度高、模塊化設計易于維護、低成本的優勢。該系統所配套的所有核心組件均為國際知名品牌。
更新時間:2025-12-17
nie-3500 (ac)全自動離子束清洗系統產品概述：該系統為全自動上下載片，并且通過計算機全自動實現工藝控制的緊湊型獨立的立柜式離子束刻蝕系統，系統具有結構緊湊、功能強大、自動化程度高、模塊化設計易于維護、低成本的優勢。該系統所配套的所有核心組件均為國際知名品牌。
更新時間:2025-12-17
npe-4000（m） pecvd等離子體化學氣相沉積系統概述：nano-master pecvd系統能夠沉積高質量的sio2, si3n4, 或dlc薄膜到最大可達12” 直徑的基片上.該系統采用淋浴頭電極或中空陰極射頻等離子源來產生等離子，具有分形氣流分布的優勢.樣品臺可以通過rf或脈沖dc產生偏壓。并可以支持加熱和循環冷卻水的冷卻.使用250l/sec渦輪分子泵及3.5 cfm的機械泵，腔體可以達到低至10-7 torr的真空。標準配置包含1路惰性氣體、3路活性氣體管路和4個mfc.帶有獨一無二氣體分布系統的平面中空陰極等離子源使得系統可以滿足廣大范圍的要求，無論是等離子強度、均勻度，還是要分別激活某些活性組份，這樣系統可以覆蓋最廣的可能性來獲得各種沉積參數。
更新時間:2025-12-17
最新技術的兆聲和清洗技術的發展，對mems和半導體等領域的晶圓和掩模版清洗提供了最新的水平，可以幫助用戶獲得最干凈的晶圓片和掩模版。
更新時間:2025-12-17
最新技術的兆聲和清洗技術的發展，對mems和半導體等領域的晶圓和掩模版清洗提供了最新的水平，可以幫助用戶獲得最干凈的晶圓片和掩模版。
更新時間:2025-12-17
最新技術的兆聲和清洗技術的發展，對mems和半導體等領域的晶圓和掩模版清洗提供了最新的水平，可以幫助用戶獲得最干凈的晶圓片和掩模版。
更新時間:2025-12-17
npc-3500（m）等離子清洗/去膠機概述：nano-master 等離子清洗和灰化系統是專門設計用來滿足晶圓批處理或者單晶片處理的廣泛應用，從晶圓的光刻膠剝離到表面改性都涉及到。該系列的設備采用pc控制，可以配套不同的等離子源，加熱或不加熱基片夾具,具有獨一無二的能力:可以從pe等離子刻蝕切換到rie刻蝕模式,也就是說可以支持各向同性和各向異性的各種應用。
更新時間:2025-12-17
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