加熱爐/電爐產品及廠家
kj-t1200-s6015lk1-4z5s多路混氣管式pecvd系統廣泛應用于沉積高質量sio薄膜、si3n4薄膜、金剛石薄膜、硬質薄膜、光學薄膜和炭納米管（cnt）等
更新時間:2025-12-17
1200℃高溫真空cvd設備廣泛用于各種反應溫度在1200℃左右的cvd實驗，也可用于：真空燒結、真空氣氛保護燒結、納米材料制備、電池材料制備等多研究領域。
更新時間:2025-12-17
kj-t1200-s60k-4c型四路高溫真空cvd設備是一種特殊的高真空cvd系統，是高校、科研院所、工礦企業做高溫氣氛燒結、氣氛還原、cvd實驗、真空退火用的理想產品。
更新時間:2025-12-17
kj-v1200-36ll-molg高壓真空退火爐主要用于高速鋼、冷熱作模具鋼、不銹鋼、彈性合金、高溫合金、磁性材料和鈦合金的真空熱處理以及真空釬焊和真空燒結。
更新時間:2025-12-17
kj-v1700-12lw真空燒結爐主要供大專院校、科研單位針對無機材料在真空（或保護氣氛）熱壓條件下進行燒結處理，以便獲得高致密度的產品(如生產高精度氮化硅陶瓷軸承等）
更新時間:2025-12-17
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