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干燥箱/烘箱產品及廠家

450度高溫烘箱
高溫烘箱,高溫電爐,屬于工業烤箱,精密熱風循環烘箱是利用精密的溫控器來控制加熱系統來實現均溫高溫熱處理,測試的目的,產品適用于高科技電子業,研究機構,學校,工廠,實驗室等單位。
更新時間:2025-12-16
SECS/GEM協議無塵烘箱,無塵烤箱
secs/gem協議無塵烘箱,無塵烤箱用于半導體制造中硅片、砷化鎵、鈮酸鋰、玻璃等材料涂膠前的預處理烘烤、涂膠后堅膜烘烤和顯影后的高溫烘烤;設備可以使用tcp / ip(使用hsms標準,semi e37)或基于rs-232的協議與支持gem的主機進行通信通常這兩種協議都受支持。每臺設備都可以使用由gem指定的通用secs-ii消息進行監控和控制。
更新時間:2025-12-16
硅片充氮烘箱,可程式充氮烤箱
硅片充氮烘箱,半導體充氮烤箱​是一種提供高溫凈化環境的特殊潔凈烘干設備。箱內空氣封閉自循環。烘箱工作室為光亮型全不銹鋼結構。工作室內溫度采用智能式數顯溫度控制儀進行自動控制p.i.d調節,數顯時間控制,并設有斷路及超溫報警,操作方便,使用安全。 充氮烤箱可滿足電子電器、醫藥、實驗室等生產及科研部門中凈化干燥。特殊要求溫度可達350℃-400℃并且可加裝氮氣進出口
更新時間:2025-12-16
高溫充氮潔凈烘箱,無塵充氮烤箱
高溫充氮潔凈烘箱,無塵充氮烤箱是一種耐高溫,可以達到和工作場所同樣的潔凈等級的烘箱。適用于電子液晶顯示、lcd、cmos、ic、醫藥、實驗室等生產及科研部門。
更新時間:2025-12-16
碳化硅HMDS烘箱,SiC襯底HMDS烤箱操作方法#技術新聞
碳化硅hmds烘箱,sic襯底hmds烤箱成功地將硅片等襯底表面由親水變為疏水,其疏水基可很好地與光刻膠結合,起著偶聯劑的作用。
更新時間:2025-12-16
HMDS預處理系統在超薄鈮酸鋰材料的應用
hmds預處理系統在超薄鈮酸鋰材料的應用它成功地將產品表面由親水變為疏水,其疏水基可很好地與光刻膠結合,起著偶聯劑的作用。
更新時間:2025-12-16
黃光區電熱鼓風烤箱,非標鼓風干燥箱
黃光區電熱鼓風烤箱,非標鼓風干燥箱用于半導體制造中硅片、砷化鎵、鈮酸鋰、玻璃等材料預處理烘烤;也適用于電子液晶顯示、lcd、cmos、is、醫藥、實驗室等生產及科研部門;也可用于非揮發性及非易燃易爆物品的干燥、熱處理、老化等其他高溫試驗。
更新時間:2025-12-16
充氮真空烘箱,快速降溫真空烤箱
充氮真空烘箱,快速降溫真空烤箱用于鍵合材料的真空預處理 、bcb固化、ito膜退火,pi膠固化等工藝。廣泛應用于半導體、電子產品、醫療衛生等行業,適用于工廠、高等院校、科研等場所。
更新時間:2025-12-16
無塵烤箱,非光敏型聚酰亞胺樹脂(PI)無塵烤箱
為了獲得良好的聚酰亞胺性能,非常好的溫度均勻性,低氧含量和低顆粒數是非常重要的。無塵烤箱,非光敏型聚酰亞胺樹脂(pi)烤箱腔內的氣體保持相當干凈(100級),良好的溫度均勻性。通過氮氣吹掃可將氧氣含量降低至20ppm以下。這保證了非光敏聚酰亞胺的優異工藝結果。
更新時間:2025-12-16
潔凈烘箱,氮氣潔凈烘箱,充氮烘箱
潔凈烘箱,氮氣潔凈烘箱,充氮烘箱是一種提供高溫凈化環境的特殊潔凈烘干設備。烘箱整機為不銹鋼結構,全部采用無塵材料,箱內持續充氮,使烘箱工作室內處于潔凈狀態。
更新時間:2025-12-16
無塵室烤箱,半導體專用無塵烤箱
無塵室烤箱,半導體專用無塵烤箱用于半導體制造中硅片、砷化鎵、鈮酸鋰、玻璃等材料涂膠前的預處理烘烤、涂膠后堅膜烘烤和顯影后的高溫烘烤;也適用于電子液晶顯示、lcd、cmos、is、醫藥、實驗室等生產及科研部門;hmds無塵烤箱可以在硅片、基片表面均勻涂布一層hmds,降低了hmds處理后的硅片接觸角,降低了光刻膠的用量,提高光刻膠與硅片的黏附性。
更新時間:2025-12-16
濕敏元件用烘箱
濕敏元件用烘箱滿足各種濕敏元件烘烤條件的用烘烤設備,可實現:40℃~90℃ 低溫烘烤125℃~150℃ 烘烤及高溫試驗
更新時間:2025-12-16
熱風循環烘箱,精密烤箱
熱風循環烘箱,精密烤箱是一種高功能、高信賴度烤箱,結構、材質強度、保溫、循環風道等均設計精良,且外形美觀、操作方便。空氣循環系統為水平式循環送風,風源由循環馬達運轉帶動風輪經電熱器,將熱風由風道送至烤箱內部,且將使用后空氣吸入風道成為風源再度循環加熱,如此可得到較佳的溫度均勻性
更新時間:2025-12-16
抗粘劑鍍膜機,抗粘劑蒸鍍機,抗粘劑氣相涂布機
抗粘劑鍍膜機,抗粘劑蒸鍍機,抗粘劑氣相涂布機在納米壓印工藝中模具在進行壓印要進行預處理,當模具壓印光刻膠后脫模時,有2種可能,一種是模具可完全脫離,壓印膠圖形完整保留;一種是模具和壓印膠粘在一起脫模過程中膠也被帶起來,使得壓印圖形無法保留,而這些粘在模具上的膠也會污染模具。因此模具在使用,要涂一層抗粘劑,使得模具和壓印膠之間的粘附性變差,使脫模過程變得容易。
更新時間:2025-12-16
晶圓潔凈烘箱,光刻硬烘烤箱
晶圓潔凈烘箱,光刻硬烘烤箱 潔凈度100級的潔凈熱處理hepa過濾器與前出風型水平層流循環方式實現并保證箱內的溫度分布的均勻性與100級潔凈度。最小限度控制風速距離。
更新時間:2025-12-16
芯片hmds預處理,可編程hmds通過對烘箱預處理過程的工作溫度、處理時間、處理時保持時間等參數的控制可以在硅片、基片表面均勻涂布一層hmds,降低了hmds處理后的硅片接觸角,降低了光刻膠的用量,提高光刻膠與硅片的黏附性。適用于硅片、砷化鎵、陶瓷、不銹鋼、鈮酸鋰、玻璃、藍寶石、晶圓等材料預處理及相關行業
更新時間:2025-12-16
增粘劑烤箱,HMDS烘箱
增粘劑烤箱,hmds烘箱將hmds涂到led、半導體制造中硅片、砷化鎵、鈮酸鋰、玻璃、藍寶石、晶圓等材料表面后,經烘箱加溫可反應生成以硅氧烷為主體的化合物。它成功地將硅片表面由親水變為疏水,其疏水基可很好地與光刻膠結合,起著偶聯劑的作用。均勻涂布一層hmds,降低了hmds處理后的硅片接觸角,降低了光刻膠的用量,提高光刻膠與硅片的黏附性。
更新時間:2025-12-16
芯片高溫高濕實驗機,晶圓恒溫恒濕老化箱
芯片高溫高濕實驗機,晶圓恒溫恒濕老化箱適用于電工、電子、儀器儀表及其它產品、零部件及材料在高低溫交變濕熱環境下貯存、運輸、使用時的適應性試驗;
更新時間:2025-12-16
無塵class100烘箱,MES接口無塵烘箱
無塵class100烘箱,mes接口無塵烘箱用于ic生產過程中極為重要的光刻工藝中預烘烤(軟烘),脫水烘烤,涂膠后的堅膜烘烤(硬烘);也適用于電子液晶顯示、柔性面板、lcd、cmos、oled、醫藥、實驗室等生產及科研部門。
更新時間:2025-12-16
隧道烘箱,流水線烘箱
隧道烘箱,流水線烘箱作用是將需要烘烤的產品在流水線上連續性進行烘烤,以達到提高生產效率。
更新時間:2025-12-16
清潔烤箱,無塵烤箱@推薦2023檢測流程
無塵烤箱配備hepa過濾器,以保持爐腔無顆粒。 hepa過濾器(高效微粒捕獲)現在是電子和平板顯示器潔凈室組裝的主要過濾系統,或任何需要大程度減少或去除亞微米微粒的應用。 hepa過濾器具有隨機定位的微玻璃纖維的深床,其中與平均纖維直徑和自由路徑橫截面的有效孔相比,總床深度(過濾器的厚度)非常大。
更新時間:2025-12-16
12寸HMDS真空烤箱,芯片HMDS烘箱
12寸hmds真空烤箱,芯片hmds烘箱通過對烘箱預處理過程的工作溫度、處理時間、處理時保持時間等參數的控制可以在硅片、基片表面均勻涂布一層hmds,降低了hmds處理后的硅片接觸角,降低了光刻膠的用量,提高光刻膠與硅片的黏附性。
更新時間:2025-12-16
馬弗爐,高溫電阻爐2023動態已更新《新品/推薦》
馬弗爐,高溫電阻爐是分析實驗室樣品干法處理,冶金實驗室做熔融實驗,熱處理部門做退火、淬火等實驗,以及其他需要高溫的場合需要的加熱輔助設備,應用廣泛。一體型馬弗爐是新研制生產的產品,該產品將爐體與控制部分做了整合,大的降低了所占空間面積。
更新時間:2025-12-16
玻璃棉卷氈憎水處理系統  憎水劑噴涂機
玻璃棉卷氈憎水處理系統 憎水劑噴涂機是將憎水劑滲透進入纖維間的微孔隙,固化后在孔隙表面形成納米級疏水膜,減少水汽通過毛細作用滲透的通道,同時保持纖維間孔隙的保溫性能(憎水率≥98%)
更新時間:2025-12-16
高溫無氧固化爐,百級無氧化烤箱
高溫無氧固化爐,百級無氧化烤箱用于pi、bcb膠高溫固化烘烤。整個箱體結構分為:膛體組件、箱架組件和熱風組件三個部分,膛體腔,內表面全鏡面設計,風道由左、右、后導風板與箱體內壁組合而成,膛體頂部有排風管道。
更新時間:2025-12-16
實驗室恒溫鼓風干燥箱 恒溫試驗箱@2023煤質新聞儀器內容已更
101a系列數顯鼓風干燥箱箱內加熱恒溫系統由數字式溫度控制儀、電加熱器和低噪音電機等組成;控溫準確、直觀易讀;工作室溫度室溫-300℃之間任意恒溫 ;箱門上雙層鋼化玻璃觀察窗,便于觀察箱內加熱物品。
更新時間:2025-12-16
無氧烘箱,20ppm無氧烘箱#2023價格已更新
無氧烘箱,20ppm無氧烘箱應用于精密電子元件、pi、bcb膠高溫固化烘烤、光刻膠固化、電子陶瓷材料無塵烘干的特殊工藝要求,形成高溫、低氧(無氧)、潔凈環境,特別適合半導體制造、cob封裝、ic封裝、石英玻璃、醫療衛生、柔性線路板印刷、精密模具煺火等行業的無氧化干燥烘烤工藝要求.
更新時間:2025-12-16
hmds涂膠烤箱,mes接口hmds涂布機的主要作用是對晶圓做表面處理,以增加光阻在晶圓表面的附著力。當晶圓送到黃光區時,表面可能有含水層,高溫烘烤后去除水氣,同時經過hmds制程改變晶圓表面從極性到非極性,將晶圓表面的表面能被調整到與光阻表面相當的程度,從而使光阻可以很好的附著在晶圓表面。
更新時間:2025-12-16
LCP熱處理烘箱,LCP纖維氮氣烘箱
lcp熱處理烘箱,lcp纖維氮氣烘箱是將液晶聚合物(lcp)當加熱到足夠高的溫度,lcp熔融形成液晶熔融相(經常叫做“各向異性相”)而不是各向同性熔融相。
更新時間:2025-12-16
500℃高溫烤箱,高溫燒結箱
500℃高溫烤箱、高溫燒結箱廣泛應用于電子、電機、通訊、電鍍、塑料、五金化工、食品、印刷、制藥、pc板、粉體、含浸、噴涂、玻璃、陶瓷、木器建材.可供生產廠家和科研單位做三氟乙烯、四氟乙烯、pe等壓縮成型制品的燒結。
更新時間:2025-12-16
精密熱風烘箱,可程式工業烘箱@2023動態已更新推薦
精密熱風烘箱的操作方法,可程式工業烘箱適用于電子業 、試驗檢測、科研、生產、老化測試、pcb、pe、電解電容、橡塑料鍵盤、計算機等。電容生產、硅橡膠、半導體、lcm、lcd、led、mlcc、tft、精密陶瓷、石英振蕩器等。
更新時間:2025-12-16
表面改性疏水處理設備
表面改性疏水處理設備將疏水材料硅烷偶聯劑,通過霧化設備噴涂到陶瓷纖維表面,經高溫烘烤數小時增強附著力。
更新時間:2025-12-16
自然通風老化箱,自然換氣式老化試驗機
自然通風老化箱,自然換氣式老化試驗機用于電線、電纜、塑料、橡膠等行業作熱老化試驗、熱延伸試驗、球壓試驗等,也可用于工礦企業、科研單位、大專院校等實驗室作烘焙、高溫試驗,符合gb/t 2951電纜和光纜絕緣和護套材料通用試驗方法。
更新時間:2025-12-16
精密無氧化烘箱,無氧烤箱#2023動態已更新
精密無氧化烘箱,無氧烤箱在工作時,工作室內充滿了惰性氣體co2,n2,防止材料在烘烤時被氧化。無氧化烘箱在工業中的用途:ic包裝,lcd,晶體管,傳感器,二管,石英晶體振蕩器,混合集成電路板……
更新時間:2025-12-16
智能型HMDS烘箱,HMDS預處理系統@索引2023訂購說明
hmds 預處理系統通過對烘箱預處理過程的工作溫度、處理時間、處理時保持時間等參數的控制可以在硅片、基片表面均勻涂布一層hmds,降低了hmds 處理后的硅片接觸角,降低了光刻膠的用量,提高光刻膠與硅片的黏附性。
更新時間:2025-12-16
無氧烘箱,20ppm無氧烘箱
無氧烘箱,20ppm無氧烘箱應用于精密電子元件、pi、bcb膠高溫固化烘烤、光刻膠固化、電子陶瓷材料無塵烘干的特殊工藝要求,形成高溫、低氧(無氧)、潔凈環境,特別適合半導體制造、cob封裝、ic封裝、石英玻璃、醫療衛生、柔性線路板印刷、精密模具煺火等行業的無氧化干燥烘烤工藝要求.
更新時間:2025-12-16
硅片充氮烘箱,半導體充氮烤箱
硅片充氮烘箱,半導體充氮烤箱是一種提供高溫凈化環境的特殊潔凈烘干設備,適用于電子液晶顯示、lcd、cmos、ic、醫藥、實驗室等生產及科研部門。
更新時間:2025-12-16
無氧烘箱,光刻膠固化烘箱2023已更新(每日/實時)
無氧烘箱,光刻膠固化烘箱用于精密電子元件、pi膠固化烘烤、bcb固化,光刻膠固化、lcp液晶聚合物熱處理、電子陶瓷材料烘干的特殊工藝要求,
更新時間:2025-12-16
電熱鼓風烤箱,小型干燥烘箱
電熱鼓風烤箱,小型干燥烘箱用于半導體制造中硅片、砷化鎵、鈮酸鋰、玻璃等材料預處理烘烤;也適用于電子液晶顯示、lcd、cmos、is、醫藥、實驗室等生產及科研部門;也可用于非揮發性及非易燃易爆物品的干燥、熱處理、老化等其他高溫試驗。
更新時間:2025-12-16
OAP烘箱,OAP處理烘箱
oap烘箱,oap處理烘箱處理主要是為了改善親水性表面,變為疏水性,從而達到增加光刻膠粘附性的作用。
更新時間:2025-12-16
class100高溫潔凈烘箱,程控式無塵烤箱
class100高溫潔凈烘箱,程控式無塵烤箱采用液晶觸摸屏溫度控制器,內置曲線查詢、pid自整定、高溫上限報 警運行方式:定值、程式,中、英文操作。
更新時間:2025-12-16
HMDS涂膠機,智能型HMDS涂膠機,HMDS自動涂膠機
hmds涂膠機,智能型hmds涂膠機,hmds自動涂膠機將hmds涂到半導體制造中硅片、砷化鎵、鈮酸鋰、玻璃、藍寶石、晶圓等材料表面后,經烘箱加溫可反應生成以硅氧烷為主體的化合物。它成功地將硅片表面由親水變為疏水,其疏水基可很好地與光刻膠結合,起著偶聯劑的作用。
更新時間:2025-12-16
無塵烘箱,無塵固化烤箱
無塵烘箱,無塵固化烤箱用于高精度硅上薄膜電阻制造過程中堅膜工藝。也用于半導體制造中硅片、砷化鎵、鈮酸鋰、玻璃等材料涂膠前的預處理烘烤、涂膠后堅膜烘烤和顯影后的高溫烘烤。
更新時間:2025-12-16
實驗室HMDS專用烘箱  小型HMDS處理烤箱
實驗室hmds專用烘箱 小型hmds處理烤箱解決光刻膠附著力不足問題,同時增強光刻圖形的完整性.
更新時間:2025-12-16
聚酰亞胺PI無氧烘箱,氮氣亞胺化烘箱
聚酰亞胺pi無氧烘箱,氮氣亞胺化烘箱應用于精密電子元件、pi、cpi/pbo/lcp/bcb膠高溫固化烘烤、銀膠固化、光刻膠固化、電子陶瓷材料無塵烘干的特殊工藝要求
更新時間:2025-12-16
芯片高溫燒結箱,500℃高溫烤箱@實驗室動態
芯片高溫燒結箱,500℃高溫烤箱廣泛應用于電子、電機、通訊、電鍍、塑料、五金化工、食品、印刷、制藥、pc板、粉體、含浸、噴涂、玻璃、陶瓷、木器建材.可供生產廠家和科研單位做三氟乙烯、四氟乙烯、pe等壓縮成型制品的燒結
更新時間:2025-12-16
六甲基二硅氮烷(HMDS)表面處理設備
六甲基二硅氮烷(hmds)表面處理設備的工藝是勻膠襯底“增附”處理。容積大?。?50*350*350/450*450*450
更新時間:2025-12-16
曲線溫濕度試驗箱,線性恒溫恒濕試驗機
線性恒溫恒濕試驗機,曲線溫濕度試驗箱試驗各種材料耐熱、耐寒、耐干、耐濕性能。適合電子、電器、通訊、儀表、車輛、塑膠制品、金屬、食品、化學、建材、醫療、航天等制品檢測質量之用。
更新時間:2025-12-16
乙烯基三甲氧基硅烷涂膠機 VTMS蒸鍍機 硅烷偶聯劑氣相沉積系統
乙烯基三甲氧基硅烷涂膠機 vtms蒸鍍機 硅烷偶聯劑氣相沉積系統在材料進行表面改性,形成防水保護層,主要用于半導體、光電、生物新材料等表面處理工藝、機械乳化劑、橡膠粘結劑,化工油墨分散劑等用途。
更新時間:2025-12-16
抽屜烘箱,抽拉層式烘箱2023動態已更新《新品/推薦》
抽屜烘箱,抽拉層式烘箱用于半導體、電子行業、軌道交通、汽車零部件、航空航天,工礦企業、大院校、生物制藥、科研、醫療單位及各類實驗室等作非易燃易爆物品及非揮發性物品的干燥、烘培、熔臘、滅菌之用。
更新時間:2025-12-16

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