掃描電子顯微鏡（SEM）產品及廠家
sem掃描電鏡，臺式掃描電子顯微鏡在電子學研究中，掃描電鏡主要可以用來觀測及分析半導體、數據存儲材料、太陽能電池、led、元器件、pcb板及mems器件等的形態(tài)或缺陷 。
更新時間:2025-12-16
行業(yè)標準操作sh/t 0221液化石油氣密度或相對密度測定法(壓力密度計法)
更新時間:2025-12-16
tomlov hdmi電源產品顯微鏡將傳統顯微鏡升級為數字可視化系統，讓觀察更輕松、記錄更便捷。三款產品以不同配置滿足從入門到專業(yè)的各類需求，是電子愛好者、收藏家和專業(yè)維修人員的實用工具。
更新時間:2025-12-15
日本電子掃描電子顯微鏡jcm-700強大的"zeromag"功能，讓您從光學顯微鏡的觀察方式，輕松的無縫接軌到掃描電鏡的影像觀察。"live analysis"則實現了sem影像觀察時實時的eds成份分析。
更新時間:2025-12-15
蔡司電腦斷層掃描測量機-多探頭測量機設備;工業(yè)計算機斷層掃描（ct）為您提供了quanxin的洞見，讓您可以快速采集所有內部結構的體積。蔡司是快速ct的先驅，并且能夠在生產周期中對組件進行完整的以體積為基礎的檢查。
更新時間:2025-12-15
jsm-it800shl 是日本電子株式會社（jeol） 2020 年新推出的場發(fā)射掃描電鏡，它秉承 jeol 熱場發(fā)射掃描電鏡 jsm-7900f 的大束流，高穩(wěn)定性的傳統，同時將分辨率提高到新的限，全新設計的超混合型物鏡，高分辨率的獲得以及磁性樣品的觀察都可以同時完成，而且標配 jeol 新開發(fā)的 neo
更新時間:2025-12-15
德neaspec真空太赫茲波段近場光學顯微鏡hv-thz-neasnom，該套系統成功地繼承了德國neaspec公司thz-neasnom的設計優(yōu)勢，采用專利保護的雙光路設計，完全可以實現真空環(huán)境下太赫茲波段應用的樣品測量。hv-thz-neasnom在實現30nm高空間分辨率的同時，由于采用0.1-3thz波段的時域太赫茲光源（thz-tds），也可以實現近場太赫茲成像和圖譜的同時測量。
更新時間:2025-12-15
德國ksi i-wafer型全自動晶圓超聲波缺陷檢測系統，在ksi i-wafer的探測下，晶圓中的孔隙、分層或者雜質都能被發(fā)現。尺寸在450mm的多種晶圓也能進行檢測
更新時間:2025-12-15
ksi i-ingot型全自動晶錠分析檢測系統,適用于對晶錠的無損檢測，有了它，晶錠內部的裂縫或雜質就能得到快速檢測，晶錠的尺寸可達450mm，檢測時間短，也不需要做其它設定。
更新時間:2025-12-15
德國zeiss蔡司聚焦離子束掃描電鏡fib/sem crossbeam 350，crossbeam 550
更新時間:2025-12-15
日本jeol掃描電子顯微鏡 jsm-it200 intouchscope ，是一款更簡潔、更易于使用且性價比高的掃描電子顯微鏡。使用初學者易懂的樣品交換導航，可以輕松地從樣品臺搜索視野并開始觀察sem圖像。zeromag能像光鏡一樣直觀地搜索視野，live analysis*2可以不用特意分析就能實時獲取元素分析結果，smile viewtm lab能綜合編輯觀察和分析報告等。
更新時間:2025-12-15
日本jeol掃描電子顯微鏡 jsm-it500hr，采用新開發(fā)的高亮度電子槍和透鏡系統，可以更迅速便捷地提供令人驚嘆的高分辨率圖像、高靈敏度和高空間分辨率；從設定視野到生成報告，利用完全集成的軟件大大地提高了作業(yè)速度。
更新時間:2025-12-15
日本jeol低溫冷凍離子切片儀ib-09060cis，冷卻保持時間長，有效地抑制了熱損傷。易受熱損傷的樣品，也能方便地制作出薄膜樣品和截面樣品。
更新時間:2025-12-15
日本jeol 離子切片儀 em-09100is ，用于tem 、stem 、 sem 、 epma 和 auger樣品制備的創(chuàng)新方法 離子切片儀制備薄膜樣品比傳統制備工具快速、簡單。低能量、低角度（0°到6°）的氬離子束通過遮光帶照射樣品，大大降低了離子束對樣品的輻照損壞。即使是柔軟的材料,制備的薄膜質量也好，對不同成份的樣品甚至含有多孔合成物也都能夠有效制備。
更新時間:2025-12-15
日本jeol截面樣品拋光儀ib-19530cp，采用多用途樣品臺，通過交換各種功能性樣品座實現了功能的多樣化。根據需要可以選擇不同的功能性樣品座，不僅能截面刻蝕，還可以進行平面刻蝕、離子束濺射鍍膜等。
更新時間:2025-12-15
日本jeol截面樣品制備裝置ib-19530cp，采用多用途樣品臺，通過交換各種功能性樣品座實現了功能的多樣化。根據需要可以選擇不同的功能性樣品座，不僅能截面刻蝕，還可以進行平面刻蝕、離子束濺射鍍膜等。
更新時間:2025-12-15
日本jeol 截面樣品拋光儀 ib-19520ccp，在加工過程中利用液氮冷卻，能減輕離子束對樣品造成的熱損傷。冷卻持續(xù)時間長、液氮消耗少的構造設計。在裝有液氮的情況下，也能將樣品快速冷卻、恢復到室溫，并且可以拆卸。配有傳送機構，在隔離空氣的環(huán)境下能完成從加工到觀察的全過程。
更新時間:2025-12-15
日本jeol 軟x射線分析譜儀，通過組合新開發(fā)的衍射光柵和高靈敏度ｘ射線ccd相機，實現了高的能量分辨率。 和eds一樣可以并行檢測，并且能以0.3ev(費米邊處al-l基準)的高能量分辨率進行分析，超過了wds的能量分辨率。
更新時間:2025-12-15
日本jeol 電子探針顯微分析儀 jxa-ihp100，可以安裝通用性強、使用方便的能譜儀x射線探測器，組合使用wds和eds，能提供無縫、舒適的分析環(huán)境。
更新時間:2025-12-15
日本jeol 聚焦離子束加工觀察系統 jib-4000，配置了高性能的離子鏡筒(單束fib裝置)。被加速了的鎵離子束經聚焦照射樣品后，就能對樣品表面進行sim觀察 、研磨，沉積碳和鎢等材料。還可以為tem成像制備薄膜樣品，為觀察樣品內部制備截面樣品。通過與sem像比較，sim像能清楚地顯示出歸因于晶體取向不同的電子通道襯度差異，這些都非常適合于評估多層鍍膜的截面及金屬結構。
更新時間:2025-12-15
日本jeol 雙束加工觀察系統 jib-4700f，該設備的sem鏡筒中采用了超級混合圓錐形物鏡、gb模式和in-lens檢測器系統，在1kv低加速電壓下,實現了1.6nm的保證分辨率,與最大能獲得300na探針電流的浸沒式肖特基電子槍組合，可以進行高分辨率觀察和高速分析。
更新時間:2025-12-15
日本jeol 能量色散型x射線熒光分析儀 jsx-1000s，采用觸控屏操作、提供更加簡便迅速的元素分析。具備常規(guī)定性、定量分析（fp法・檢量線法）、rohs元素篩選功能等。利用豐富的硬件/軟件選配件、還能進行更廣泛的分析。
更新時間:2025-12-15
第六代 phenom pure 是一款使用高亮度 ceb6 燈絲的高分辨臺式掃描電鏡。放大倍數 175,000 倍，用于觀察亞微米樣品的微觀結構。pure 具有全自動操作、15 快速抽真空、不噴金觀看絕緣體、2-3 年更換燈絲等特點，適用于傳統大電鏡待測樣品的快速篩選，也適合于光學顯微鏡的分辨率無法滿足需求的客戶。
更新時間:2025-12-12
第六代 phenom pro 臺式掃描電鏡是一款功能強大，輕松易用的多功能設備。長壽命、高亮度 ceb6 燈絲擴展了研究設備的功能，結合豐富的樣品杯選件和拓展的全自動軟件，phenom pro 可以適用于廣泛的研究域。
更新時間:2025-12-12
加快材料研究的突破性進展，您的實驗室需要一臺具備快速準確分析大量材料微觀結構的掃描電鏡。第六代 phenom prox 飛納臺式掃描電鏡能譜一體機引入了全新一代操作系統，通過改進光路設計，將分辨率提升到新高度。能譜操作界面與能譜算法進一步升，易于操作，元素分析更快速。
更新時間:2025-12-12
放大倍數：20000x；分辨率：優(yōu)于30nm；燈絲：1500小時ceb6燈絲抽真空時間：10；樣品移動方式：自動馬達樣品臺樣品定位方式：光學和低倍電子雙重導航樣品導電性要求：無需噴金，直接觀測絕緣體
更新時間:2025-12-12
加快材料研究的突破性進展，您的實驗室需要一臺具備快速準確分析大量材料微觀結構的掃描電鏡。第六代 phenom prox 飛納臺式掃描電鏡能譜一體機引入了全新一代操作系統，通過改進光路設計，將分辨率提升到新高度。能譜操作界面與能譜算法進一步升，易于操作，元素分析更快速。
更新時間:2025-12-12
加快材料研究的突破性進展，您的實驗室需要一臺具備快速準確分析大量材料微觀結構的掃描電鏡。第六代 phenom prox 飛納臺式掃描電鏡能譜一體機引入了全新一代操作系統，通過改進光路設計，將分辨率提升到新高度。能譜操作界面與能譜算法進一步升，易于操作，元素分析更快速。
更新時間:2025-12-12
加快材料研究的突破性進展，您的實驗室需要一臺具備快速準確分析大量材料微觀結構的掃描電鏡。第六代 phenom prox 飛納臺式掃描電鏡能譜一體機引入了全新一代操作系統，通過改進光路設計，將分辨率提升到新高度。能譜操作界面與能譜算法進一步升，易于操作，元素分析更快速。
更新時間:2025-12-12
第六代 phenom pro 臺式掃描電鏡是一款功能強大，輕松易用的多功能設備。長壽命、高亮度 ceb6 燈絲擴展了研究設備的功能，結 合豐富的樣品杯選件和拓展的全自動軟件，phenom pro 可以適用于廣泛的研究域。
更新時間:2025-12-12
第六代 phenom pure 是一款使用高亮度 ceb6 燈絲的高分辨臺式掃描電鏡。放大倍數 175,000 倍，用于觀察納米或者亞微米樣品的微觀結構。基于高亮度 ceb6 燈絲和全新的聚焦系統，phenom pure 的分辨率輕松達到 10 nm，同時具有全自動操作、15 快速抽真空、不噴金觀看絕緣體、2-3 年更換燈絲等特點。
更新時間:2025-12-12
第六代 phenom pro 臺式掃描電鏡是一款功能強大，輕松易用的多功能設備。長壽命、高亮度 ceb6 燈絲擴展了研究設備的功能，結 合豐富的樣品杯選件和拓展的全自動軟件，phenom pro 可以適用于廣泛的研究域。
更新時間:2025-12-12
飛納掃描電鏡是一款使用高亮度 ceb6 燈絲的高分辨臺式掃描電鏡。放大倍數 350,000 倍，用于觀察納米或者亞微米樣品的微觀結構。
更新時間:2025-12-12
全新的易于學習的界面可幫助您快速掌握新信息，是各種應用的理想選擇。phenom xl g2 升為全面屏成像，平均成像時間僅為 40 ，比市場上其他臺式電鏡的速度快 5 倍之多。系統可對大 100 x 100mm 的樣品進行分析，8nm 的分辨率為分析提供更多的細節(jié)。利設計的放氣/樣品裝載系統可以實現全快的放氣/裝載速度，并獲得大的樣品吞吐效率。
更新時間:2025-12-12
加快材料研究的突破性進展，您的實驗室需要一臺具備快速準確分析大量材料微觀結構的掃描電鏡。第六代 phenom prox 飛納臺式掃描電鏡能譜一體機引入了全新一代操作系統，通過改進光路設計，將分辨率提升到新高度。能譜操作界面與能譜算法進一步升，易于操作，元素分析更快速。
更新時間:2025-12-12
phenom pro 是飛納（phenom）第七代高分辨率臺式掃描電鏡，采用一代 高亮度 ceb? 燈絲 與優(yōu)化的電子光學系統，實現 優(yōu)于 6 nm 分辨率，最高放大 350,000×， 輕松完成納米級與亞微米級材料的微觀形貌觀察。相比上一代產品，分辨率提升約 20％，新增 實時 bse/se 混合圖像（mix） 功能，為科研與工業(yè)檢測帶來更高效率與更精確的微觀分析體驗。
更新時間:2025-12-12
的易于學習的界面可幫助您快速掌握信息，是各種應用的理想選擇。phenom xl g3 平均成像時間僅為 40 秒，比市場上其他臺式電鏡的速度快 5 倍之多。系統可對最大 100 x 100mm 的樣品進行分析，8nm 的分辨率為分析提供更多的細節(jié)。專利設計的放氣 / 樣品裝載系統可以實現全世界相對較快的放氣 / 裝載速度，并獲得非常少有的比較高的樣品吞吐效率。
更新時間:2025-12-12
飛納電鏡能譜一體機 phenom prox 是終的集成化成像分析系統。借助該系統，既可觀察樣品的表面形貌，又可分析其元素組分。
更新時間:2025-12-12
飛納電鏡推出的 chemisem 技術，將 sem 形貌觀察與 eds 成分分析相結合，讓工作流程更加流暢，簡化了許多材料（包括金屬、陶瓷、電池、涂層、水泥和軟物質材料等）的分析流程：通過彩色元素分布圖與 sem 圖像的實時疊加，在成像同時提供高質量的成分定性定量信息。
更新時間:2025-12-12
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