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掃描電子顯微鏡(SEM)產(chǎn)品及廠家

行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)操作SH/T 0221液化石油氣密度或相對(duì)密度測(cè)定法(壓力密度計(jì)法)
行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)操作sh/t 0221液化石油氣密度或相對(duì)密度測(cè)定法(壓力密度計(jì)法)
更新時(shí)間:2025-12-16
標(biāo)準(zhǔn)操作SH/T 0059潤(rùn)滑油燕發(fā)損失的測(cè)定諾亞克法
標(biāo)準(zhǔn)操作sh/t 0059潤(rùn)滑油燕發(fā)損失的測(cè)定諾亞克法
更新時(shí)間:2025-12-16
日本電子熱場(chǎng)發(fā)射掃描電子顯微鏡
日本電子熱場(chǎng)發(fā)射掃描電子顯微鏡適用于納米材料、化學(xué)、新材料、半導(dǎo)體器件的觀察和分析。
更新時(shí)間:2025-12-16
TOMLOV HDMI 顯微鏡 DM401/DM401 Pro/DM402 Pro 2K/4K 高清 1200X 放大 7 寸 IPS 屏 雙 LED 光源 自動(dòng)對(duì)焦 電子維修 PCB 焊接珠寶鑒定
tomlov hdmi電源產(chǎn)品顯微鏡將傳統(tǒng)顯微鏡升級(jí)為數(shù)字可視化系統(tǒng),讓觀察更輕松、記錄更便捷。三款產(chǎn)品以不同配置滿足從入門(mén)到專業(yè)的各類(lèi)需求,是電子愛(ài)好者、收藏家和專業(yè)維修人員的實(shí)用工具。
更新時(shí)間:2025-12-15
日本電子掃描電子顯微鏡
日本電子掃描電子顯微鏡jcm-700強(qiáng)大的"zeromag"功能,讓您從光學(xué)顯微鏡的觀察方式,輕松的無(wú)縫接軌到掃描電鏡的影像觀察。"live analysis"則實(shí)現(xiàn)了sem影像觀察時(shí)實(shí)時(shí)的eds成份分析。
更新時(shí)間:2025-12-15
蔡司電腦斷層掃描測(cè)量機(jī)2022動(dòng)態(tài)已更新《采購(gòu)/推薦》
蔡司電腦斷層掃描測(cè)量機(jī)-多探頭測(cè)量機(jī)設(shè)備;工業(yè)計(jì)算機(jī)斷層掃描(ct)為您提供了quanxin的洞見(jiàn),讓您可以快速采集所有內(nèi)部結(jié)構(gòu)的體積。蔡司是快速ct的先驅(qū),并且能夠在生產(chǎn)周期中對(duì)組件進(jìn)行完整的以體積為基礎(chǔ)的檢查。
更新時(shí)間:2025-12-15
日本電子JEOL場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡
jsm-it800shl 是日本電子株式會(huì)社(jeol) 2020 年新推出的場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡,它秉承 jeol 熱場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡 jsm-7900f 的大束流,高穩(wěn)定性的傳統(tǒng),同時(shí)將分辨率提高到新的限,全新設(shè)計(jì)的超混合型物鏡,高分辨率的獲得以及磁性樣品的觀察都可以同時(shí)完成,而且標(biāo)配 jeol 新開(kāi)發(fā)的 neo
更新時(shí)間:2025-12-15
德Neaspec真空太赫茲波段近場(chǎng)光學(xué)顯微鏡
德neaspec真空太赫茲波段近場(chǎng)光學(xué)顯微鏡hv-thz-neasnom,該套系統(tǒng)成功地繼承了德國(guó)neaspec公司thz-neasnom的設(shè)計(jì)優(yōu)勢(shì),采用專利保護(hù)的雙光路設(shè)計(jì),完全可以實(shí)現(xiàn)真空環(huán)境下太赫茲波段應(yīng)用的樣品測(cè)量。hv-thz-neasnom在實(shí)現(xiàn)30nm高空間分辨率的同時(shí),由于采用0.1-3thz波段的時(shí)域太赫茲光源(thz-tds),也可以實(shí)現(xiàn)近場(chǎng)太赫茲成像和圖譜的同時(shí)測(cè)量。
更新時(shí)間:2025-12-15
太赫茲近場(chǎng)光學(xué)顯微鏡
thz-neasnom太赫茲近場(chǎng)光學(xué)顯微鏡 -30nm光學(xué)信號(hào)空間分辨率
更新時(shí)間:2025-12-15
ZEISS 高分辨電子掃描顯微鏡
zeiss 高分辨電子掃描顯微鏡-evo 10,具備自動(dòng)化工作流程的高清晰掃描電鏡
更新時(shí)間:2025-12-15
德國(guó)KSI  型 全自動(dòng)晶圓超聲波缺陷檢測(cè)系統(tǒng)
德國(guó)ksi i-wafer型全自動(dòng)晶圓超聲波缺陷檢測(cè)系統(tǒng),在ksi i-wafer的探測(cè)下,晶圓中的孔隙、分層或者雜質(zhì)都能被發(fā)現(xiàn)。尺寸在450mm的多種晶圓也能進(jìn)行檢測(cè)
更新時(shí)間:2025-12-15
KSI 型全自動(dòng)晶錠分析檢測(cè)系統(tǒng)
ksi i-ingot型全自動(dòng)晶錠分析檢測(cè)系統(tǒng),適用于對(duì)晶錠的無(wú)損檢測(cè),有了它,晶錠內(nèi)部的裂縫或雜質(zhì)就能得到快速檢測(cè),晶錠的尺寸可達(dá)450mm,檢測(cè)時(shí)間短,也不需要做其它設(shè)定。
更新時(shí)間:2025-12-15
KSI高分辨率表層缺陷超聲波掃描顯微鏡系統(tǒng)
ksi-nano型高分辨率表層缺陷超聲波掃描顯微鏡系統(tǒng)聲學(xué)顯微成像系統(tǒng)和光學(xué)顯微成像系統(tǒng)的完美結(jié)合
更新時(shí)間:2025-12-15
德國(guó)KSI  雙探頭超聲波掃描顯微鏡系統(tǒng)
ksi v-duo 雙探頭超聲波掃描顯微鏡系統(tǒng),同時(shí)使用2只換能器
更新時(shí)間:2025-12-15
德國(guó)ZEISS蔡司聚焦離子束掃描電鏡FIB/SEM
德國(guó)zeiss蔡司聚焦離子束掃描電鏡fib/sem crossbeam 350,crossbeam 550
更新時(shí)間:2025-12-15
日本JEOL掃描電子顯微鏡
日本jeol掃描電子顯微鏡 jsm-it200 intouchscope ,是一款更簡(jiǎn)潔、更易于使用且性價(jià)比高的掃描電子顯微鏡。使用初學(xué)者易懂的樣品交換導(dǎo)航,可以輕松地從樣品臺(tái)搜索視野并開(kāi)始觀察sem圖像。zeromag能像光鏡一樣直觀地搜索視野,live analysis*2可以不用特意分析就能實(shí)時(shí)獲取元素分析結(jié)果,smile viewtm lab能綜合編輯觀察和分析報(bào)告等。
更新時(shí)間:2025-12-15
日本JEOL掃描電子顯微鏡
日本jeol掃描電子顯微鏡 jsm-it500hr,采用新開(kāi)發(fā)的高亮度電子槍和透鏡系統(tǒng),可以更迅速便捷地提供令人驚嘆的高分辨率圖像、高靈敏度和高空間分辨率;從設(shè)定視野到生成報(bào)告,利用完全集成的軟件大大地提高了作業(yè)速度。
更新時(shí)間:2025-12-15
日本JEOL熱場(chǎng)發(fā)射掃描電子顯微鏡
日本jeol熱場(chǎng)發(fā)射掃描電子顯微鏡 jsm-7900f
更新時(shí)間:2025-12-15
日本JEOL低溫冷凍離子切片儀
日本jeol低溫冷凍離子切片儀ib-09060cis,冷卻保持時(shí)間長(zhǎng),有效地抑制了熱損傷。易受熱損傷的樣品,也能方便地制作出薄膜樣品和截面樣品。
更新時(shí)間:2025-12-15
日本JEOL 離子切片儀
日本jeol 離子切片儀 em-09100is ,用于tem 、stem 、 sem 、 epma 和 auger樣品制備的創(chuàng)新方法 離子切片儀制備薄膜樣品比傳統(tǒng)制備工具快速、簡(jiǎn)單。低能量、低角度(0°到6°)的氬離子束通過(guò)遮光帶照射樣品,大大降低了離子束對(duì)樣品的輻照損壞。即使是柔軟的材料,制備的薄膜質(zhì)量也好,對(duì)不同成份的樣品甚至含有多孔合成物也都能夠有效制備。
更新時(shí)間:2025-12-15
日本JEOL截面樣品拋光儀
日本jeol截面樣品拋光儀ib-19530cp,采用多用途樣品臺(tái),通過(guò)交換各種功能性樣品座實(shí)現(xiàn)了功能的多樣化。根據(jù)需要可以選擇不同的功能性樣品座,不僅能截面刻蝕,還可以進(jìn)行平面刻蝕、離子束濺射鍍膜等。
更新時(shí)間:2025-12-15
日本JEOL截面樣品制備裝置
日本jeol截面樣品制備裝置ib-19530cp,采用多用途樣品臺(tái),通過(guò)交換各種功能性樣品座實(shí)現(xiàn)了功能的多樣化。根據(jù)需要可以選擇不同的功能性樣品座,不僅能截面刻蝕,還可以進(jìn)行平面刻蝕、離子束濺射鍍膜等。
更新時(shí)間:2025-12-15
日本JEOL 截面樣品拋光儀
日本jeol 截面樣品拋光儀 ib-19520ccp,在加工過(guò)程中利用液氮冷卻,能減輕離子束對(duì)樣品造成的熱損傷。冷卻持續(xù)時(shí)間長(zhǎng)、液氮消耗少的構(gòu)造設(shè)計(jì)。在裝有液氮的情況下,也能將樣品快速冷卻、恢復(fù)到室溫,并且可以拆卸。配有傳送機(jī)構(gòu),在隔離空氣的環(huán)境下能完成從加工到觀察的全過(guò)程。
更新時(shí)間:2025-12-15
日本JEOL 軟X射線分析譜儀
日本jeol 軟x射線分析譜儀,通過(guò)組合新開(kāi)發(fā)的衍射光柵和高靈敏度x射線ccd相機(jī),實(shí)現(xiàn)了高的能量分辨率。 和eds一樣可以并行檢測(cè),并且能以0.3ev(費(fèi)米邊處al-l基準(zhǔn))的高能量分辨率進(jìn)行分析,超過(guò)了wds的能量分辨率。
更新時(shí)間:2025-12-15
日本JEOL 電子探針顯微分析儀
日本jeol 電子探針顯微分析儀 jxa-ihp100,可以安裝通用性強(qiáng)、使用方便的能譜儀x射線探測(cè)器,組合使用wds和eds,能提供無(wú)縫、舒適的分析環(huán)境。
更新時(shí)間:2025-12-15
日本JEOL 聚焦離子束加工觀察系統(tǒng)
日本jeol 聚焦離子束加工觀察系統(tǒng) jib-4000,配置了高性能的離子鏡筒(單束fib裝置)。被加速了的鎵離子束經(jīng)聚焦照射樣品后,就能對(duì)樣品表面進(jìn)行sim觀察 、研磨,沉積碳和鎢等材料。還可以為tem成像制備薄膜樣品,為觀察樣品內(nèi)部制備截面樣品。通過(guò)與sem像比較,sim像能清楚地顯示出歸因于晶體取向不同的電子通道襯度差異,這些都非常適合于評(píng)估多層鍍膜的截面及金屬結(jié)構(gòu)。
更新時(shí)間:2025-12-15
日本JEOL 雙束加工觀察系統(tǒng)
日本jeol 雙束加工觀察系統(tǒng) jib-4700f,該設(shè)備的sem鏡筒中采用了超級(jí)混合圓錐形物鏡、gb模式和in-lens檢測(cè)器系統(tǒng),在1kv低加速電壓下,實(shí)現(xiàn)了1.6nm的保證分辨率,與最大能獲得300na探針電流的浸沒(méi)式肖特基電子槍組合,可以進(jìn)行高分辨率觀察和高速分析。
更新時(shí)間:2025-12-15
日本JEOL 能量色散型X射線熒光分析儀
日本jeol 能量色散型x射線熒光分析儀 jsx-1000s,采用觸控屏操作、提供更加簡(jiǎn)便迅速的元素分析。具備常規(guī)定性、定量分析(fp法・檢量線法)、rohs元素篩選功能等。利用豐富的硬件/軟件選配件、還能進(jìn)行更廣泛的分析。
更新時(shí)間:2025-12-15
FEI臺(tái)式掃描電鏡Phenom飛納 標(biāo)準(zhǔn)版
第六代 phenom pure 是一款使用高亮度 ceb6 燈絲的高分辨臺(tái)式掃描電鏡。放大倍數(shù) 175,000 倍,用于觀察亞微米樣品的微觀結(jié)構(gòu)。pure 具有全自動(dòng)操作、15 快速抽真空、不噴金觀看絕緣體、2-3 年更換燈絲等特點(diǎn),適用于傳統(tǒng)大電鏡待測(cè)樣品的快速篩選,也適合于光學(xué)顯微鏡的分辨率無(wú)法滿足需求的客戶。
更新時(shí)間:2025-12-12
FEI臺(tái)式掃描電鏡飛納(Phenom) 業(yè)版
第六代 phenom pro 臺(tái)式掃描電鏡是一款功能強(qiáng)大,輕松易用的多功能設(shè)備。長(zhǎng)壽命、高亮度 ceb6 燈絲擴(kuò)展了研究設(shè)備的功能,結(jié)合豐富的樣品杯選件和拓展的全自動(dòng)軟件,phenom pro 可以適用于廣泛的研究域。
更新時(shí)間:2025-12-12
飛納(Phenom)臺(tái)式掃描電鏡 能譜版
加快材料研究的突破性進(jìn)展,您的實(shí)驗(yàn)室需要一臺(tái)具備快速準(zhǔn)確分析大量材料微觀結(jié)構(gòu)的掃描電鏡。第六代 phenom prox 飛納臺(tái)式掃描電鏡能譜一體機(jī)引入了全新一代操作系統(tǒng),通過(guò)改進(jìn)光路設(shè)計(jì),將分辨率提升到新高度。能譜操作界面與能譜算法進(jìn)一步升,易于操作,元素分析更快速。
更新時(shí)間:2025-12-12
Phenom 飛納煙草紙張領(lǐng)域掃描電子顯微鏡
phenom 飛納煙草紙張領(lǐng)域掃描電子顯微鏡
更新時(shí)間:2025-12-12
Phenom臺(tái)式掃描電子顯微鏡標(biāo)準(zhǔn)版Pure
放大倍數(shù):20000x;分辨率:優(yōu)于30nm;燈絲:1500小時(shí)ceb6燈絲抽真空時(shí)間:10;樣品移動(dòng)方式:自動(dòng)馬達(dá)樣品臺(tái)樣品定位方式:光學(xué)和低倍電子雙重導(dǎo)航樣品導(dǎo)電性要求:無(wú)需噴金,直接觀測(cè)絕緣體
更新時(shí)間:2025-12-12
飛納臺(tái)式掃描電鏡
加快材料研究的突破性進(jìn)展,您的實(shí)驗(yàn)室需要一臺(tái)具備快速準(zhǔn)確分析大量材料微觀結(jié)構(gòu)的掃描電鏡。第六代 phenom prox 飛納臺(tái)式掃描電鏡能譜一體機(jī)引入了全新一代操作系統(tǒng),通過(guò)改進(jìn)光路設(shè)計(jì),將分辨率提升到新高度。能譜操作界面與能譜算法進(jìn)一步升,易于操作,元素分析更快速。
更新時(shí)間:2025-12-12
飛納臺(tái)式掃描電子顯微鏡 Phenom ProX
加快材料研究的突破性進(jìn)展,您的實(shí)驗(yàn)室需要一臺(tái)具備快速準(zhǔn)確分析大量材料微觀結(jié)構(gòu)的掃描電鏡。第六代 phenom prox 飛納臺(tái)式掃描電鏡能譜一體機(jī)引入了全新一代操作系統(tǒng),通過(guò)改進(jìn)光路設(shè)計(jì),將分辨率提升到新高度。能譜操作界面與能譜算法進(jìn)一步升,易于操作,元素分析更快速。
更新時(shí)間:2025-12-12
飛納臺(tái)式掃描電鏡 Phenom ProX
加快材料研究的突破性進(jìn)展,您的實(shí)驗(yàn)室需要一臺(tái)具備快速準(zhǔn)確分析大量材料微觀結(jié)構(gòu)的掃描電鏡。第六代 phenom prox 飛納臺(tái)式掃描電鏡能譜一體機(jī)引入了全新一代操作系統(tǒng),通過(guò)改進(jìn)光路設(shè)計(jì),將分辨率提升到新高度。能譜操作界面與能譜算法進(jìn)一步升,易于操作,元素分析更快速。
更新時(shí)間:2025-12-12
飛納臺(tái)式掃描電子顯微鏡業(yè)版Pro
第六代 phenom pro 臺(tái)式掃描電鏡是一款功能強(qiáng)大,輕松易用的多功能設(shè)備。長(zhǎng)壽命、高亮度 ceb6 燈絲擴(kuò)展了研究設(shè)備的功能,結(jié) 合豐富的樣品杯選件和拓展的全自動(dòng)軟件,phenom pro 可以適用于廣泛的研究域。
更新時(shí)間:2025-12-12
飛納臺(tái)式掃描電子顯微鏡標(biāo)準(zhǔn)版Pure
第六代 phenom pure 是一款使用高亮度 ceb6 燈絲的高分辨臺(tái)式掃描電鏡。放大倍數(shù) 175,000 倍,用于觀察納米或者亞微米樣品的微觀結(jié)構(gòu)。基于高亮度 ceb6 燈絲和全新的聚焦系統(tǒng),phenom pure 的分辨率輕松達(dá)到 10 nm,同時(shí)具有全自動(dòng)操作、15 快速抽真空、不噴金觀看絕緣體、2-3 年更換燈絲等特點(diǎn)。
更新時(shí)間:2025-12-12
飛納臺(tái)式掃描電鏡 Phenom  Pro
第六代 phenom pro 臺(tái)式掃描電鏡是一款功能強(qiáng)大,輕松易用的多功能設(shè)備。長(zhǎng)壽命、高亮度 ceb6 燈絲擴(kuò)展了研究設(shè)備的功能,結(jié) 合豐富的樣品杯選件和拓展的全自動(dòng)軟件,phenom pro 可以適用于廣泛的研究域。
更新時(shí)間:2025-12-12
飛納臺(tái)式掃描電鏡Phenom Pro
飛納掃描電鏡是一款使用高亮度 ceb6 燈絲的高分辨臺(tái)式掃描電鏡。放大倍數(shù) 350,000 倍,用于觀察納米或者亞微米樣品的微觀結(jié)構(gòu)。
更新時(shí)間:2025-12-12
飛納臺(tái)式掃描電鏡 Phenom XL
全新的易于學(xué)習(xí)的界面可幫助您快速掌握新信息,是各種應(yīng)用的理想選擇。phenom xl g2 升為全面屏成像,平均成像時(shí)間僅為 40 ,比市場(chǎng)上其他臺(tái)式電鏡的速度快 5 倍之多。系統(tǒng)可對(duì)大 100 x 100mm 的樣品進(jìn)行分析,8nm 的分辨率為分析提供更多的細(xì)節(jié)。利設(shè)計(jì)的放氣/樣品裝載系統(tǒng)可以實(shí)現(xiàn)全快的放氣/裝載速度,并獲得大的樣品吞吐效率。
更新時(shí)間:2025-12-12
飛納臺(tái)式大倉(cāng)室自動(dòng)化掃描電鏡
荷蘭飛納公司隆重推出第三代飛納臺(tái)式大倉(cāng)室自動(dòng)化掃描電鏡 phenom xl g3
更新時(shí)間:2025-12-12
飛納臺(tái)式掃描電鏡電鏡能譜一體機(jī)
加快材料研究的突破性進(jìn)展,您的實(shí)驗(yàn)室需要一臺(tái)具備快速準(zhǔn)確分析大量材料微觀結(jié)構(gòu)的掃描電鏡。第六代 phenom prox 飛納臺(tái)式掃描電鏡能譜一體機(jī)引入了全新一代操作系統(tǒng),通過(guò)改進(jìn)光路設(shè)計(jì),將分辨率提升到新高度。能譜操作界面與能譜算法進(jìn)一步升,易于操作,元素分析更快速。
更新時(shí)間:2025-12-12
第七代飛納臺(tái)式掃描電鏡 Phenom Pro|高分辨率專業(yè)版
phenom pro 是飛納(phenom)第七代高分辨率臺(tái)式掃描電鏡,采用一代 高亮度 ceb? 燈絲 與優(yōu)化的電子光學(xué)系統(tǒng),實(shí)現(xiàn) 優(yōu)于 6 nm 分辨率,最高放大 350,000×, 輕松完成納米級(jí)與亞微米級(jí)材料的微觀形貌觀察。相比上一代產(chǎn)品,分辨率提升約 20%,新增 實(shí)時(shí) bse/se 混合圖像(mix) 功能,為科研與工業(yè)檢測(cè)帶來(lái)更高效率與更精確的微觀分析體驗(yàn)。
更新時(shí)間:2025-12-12
飛納臺(tái)式自動(dòng)化掃描電鏡大樣品室版
的易于學(xué)習(xí)的界面可幫助您快速掌握信息,是各種應(yīng)用的理想選擇。phenom xl g3 平均成像時(shí)間僅為 40 秒,比市場(chǎng)上其他臺(tái)式電鏡的速度快 5 倍之多。系統(tǒng)可對(duì)最大 100 x 100mm 的樣品進(jìn)行分析,8nm 的分辨率為分析提供更多的細(xì)節(jié)。專利設(shè)計(jì)的放氣 / 樣品裝載系統(tǒng)可以實(shí)現(xiàn)全世界相對(duì)較快的放氣 / 裝載速度,并獲得非常少有的比較高的樣品吞吐效率。
更新時(shí)間:2025-12-12
飛納臺(tái)式掃描電鏡能譜一體機(jī) Phenom ProX G7
飛納電鏡能譜一體機(jī) phenom prox 是終的集成化成像分析系統(tǒng)。借助該系統(tǒng),既可觀察樣品的表面形貌,又可分析其元素組分。
更新時(shí)間:2025-12-12
適用金屬和礦物研究—飛納電鏡物相分析軟件
適用金屬和礦物研究—飛納電鏡chemiphase物相分析軟件更容易,更全面,更準(zhǔn)確的物相分析
更新時(shí)間:2025-12-12
飛納電鏡全景拼圖【新品】
全新界面,一鍵掃描更便捷掃描“形狀”自定義大樣品全景觀測(cè)高清圖像無(wú)錯(cuò)位
更新時(shí)間:2025-12-12
ChemiSEM 彩色成像技術(shù)
飛納電鏡推出的 chemisem 技術(shù),將 sem 形貌觀察與 eds 成分分析相結(jié)合,讓工作流程更加流暢,簡(jiǎn)化了許多材料(包括金屬、陶瓷、電池、涂層、水泥和軟物質(zhì)材料等)的分析流程:通過(guò)彩色元素分布圖與 sem 圖像的實(shí)時(shí)疊加,在成像同時(shí)提供高質(zhì)量的成分定性定量信息。
更新時(shí)間:2025-12-12
Phenom MAPS 大面積圖像拼接
phenom maps 作為一款多模態(tài)多維度地圖式圖像自動(dòng)采集及拼接軟件,可自動(dòng)獲取大型圖像數(shù)據(jù)集,并直觀地組合和關(guān)聯(lián)多種成像、分析模式,從而提供多尺度和多模態(tài)的表征數(shù)據(jù)。
更新時(shí)間:2025-12-12

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